特許
J-GLOBAL ID:200903060387314014

低反射基板およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西 義之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-184334
公開番号(公開出願番号):特開2003-002691
出願日: 2001年06月19日
公開日(公表日): 2003年01月08日
要約:
【要約】【課題】 反射防止膜を被覆した低反射基板を加熱し、曲げ加工及び/又は強化加工を施しても白濁を生じることがない高可視光線透過率及び膜面側の低可視光線透過率を有する断熱特性、電波低反射性に優れた低反射基板を得ること。【解決手段】 透明基板表面に、第1層として膜厚が15〜60nmのチタニア膜、第2層として膜厚が1〜9nmの窒化クロム膜、第3層として膜厚が20〜100nmで屈折率が1.3〜2.2を有する透明保護膜が順次積層された反射防止膜を被覆すること。
請求項(抜粋):
透明基板表面に、第1層として膜厚が15〜60nmのチタニア膜、第2層として膜厚が1〜9nmの窒化クロム膜、第3層として膜厚が20〜100nmで屈折率が1.3〜2.2を有する透明保護膜が順次積層された反射防止膜を被覆してなることを特徴とする低反射基板。
IPC (5件):
C03C 17/34 ,  G02B 1/11 ,  G02F 1/1335 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/30 310
FI (5件):
C03C 17/34 Z ,  G02F 1/1335 ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/30 310 ,  G02B 1/10 A
Fターム (49件):
2H091FA37X ,  2H091FA37Z ,  2H091FB06 ,  2H091FC02 ,  2H091FD06 ,  2H091GA01 ,  2H091LA16 ,  2K009AA06 ,  2K009AA07 ,  2K009BB02 ,  2K009BB11 ,  2K009CC02 ,  2K009CC03 ,  2K009DD04 ,  4G059AA01 ,  4G059AA08 ,  4G059AC04 ,  4G059EA01 ,  4G059EA02 ,  4G059EA04 ,  4G059EA07 ,  4G059EA12 ,  4G059EB04 ,  4G059GA02 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12 ,  5C094AA11 ,  5C094AA37 ,  5C094AA43 ,  5C094DA13 ,  5C094EB02 ,  5C094ED12 ,  5C094FA02 ,  5C094FB02 ,  5C094FB03 ,  5C094FB16 ,  5C094GB10 ,  5C094JA05 ,  5C094JA08 ,  5C094JA13 ,  5G435AA01 ,  5G435AA07 ,  5G435AA12 ,  5G435AA14 ,  5G435AA17 ,  5G435FF01 ,  5G435HH03 ,  5G435HH16 ,  5G435KK07
引用特許:
審査官引用 (3件)

前のページに戻る