特許
J-GLOBAL ID：200903060439922751
静電噴霧装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
椎名 正利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-089101
公開番号（公開出願番号）：特開2008-246328
出願日： 2007年03月29日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：
【課題】噴霧範囲を制御自在な静電噴霧装置を提供する。【解決手段】3次元位置制御装置15により、ノズル保持プレート7の位置決めを行う。その後、シリンダポンプ2の送り量を調節しながら、主ノズル4から基板8上に堆積させたい原料50及び溶媒51の混合液を噴霧させる。このとき、高電圧の印加に伴い、主ノズル4から霧状化された液体が拡散噴霧される。一方、補助ノズル5からは堆積させたい原料50を含まない、かつ揮発する溶媒53を噴霧させる。主ノズル4及び補助ノズル5には高圧電源装置10により高電圧が掛けられているため、原料50及び溶媒51の混合液の霧と溶媒53の霧とは共にプラスに帯電された状態であり、互いに反発し合う。このため、原料50及び溶媒51の混合液の霧は、四方より噴霧範囲を絞られ基板8の中心部に集中される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
液体、スラリー、若しくは粉体の少なくとも一つの原料を含む主剤と、
該主剤を基板に向けて噴霧する主ノズルと、
前記基板において所定温度にて揮発する液体、スラリー、若しくは粉体の補助剤と、
前記主ノズルの回りに複数配設され該補助剤を基板に向けて噴霧する補助ノズルと、
該補助ノズルと前記主ノズルを共に同極性に電圧印加する電圧印加手段とを備えた静電噴霧装置であって、
前記主ノズルより噴霧された主剤が前記補助ノズルより噴霧された補助剤により噴霧範囲を絞られ基板上に集中されることを特徴とする静電噴霧装置。
IPC (3件)：
B05B 5/025
, B05B 5/08
, A01M 7/00
B05B5/025 A
, B05B5/08 B
, A01M7/00 Z
2B121AA11
, 2B121AA20
, 2B121CC02
, 2B121CC28
, 2B121CC29
, 2B121CC31
, 2B121EA26
, 2B121FA13
, 2B121FA15
, 4F033QA10
, 4F033QB03X
, 4F033QB05
, 4F033QB09X
, 4F033QB11X
, 4F033QD02
, 4F033QD24
, 4F033QE05
, 4F034AA01
, 4F034AA10
, 4F034BA01
, 4F034BA07
, 4F034BA15
, 4F034BB12
, 4F034BB25
, 4F034DA23
