特許
J-GLOBAL ID:200903060473396023
滅菌システム及び滅菌装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
吉田 稔
, 田中 達也
, 仙波 司
, 古澤 寛
, 鈴木 泰光
, 臼井 尚
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-518282
公開番号(公開出願番号):特表2009-542333
出願日: 2007年06月29日
公開日(公表日): 2009年12月03日
要約:
NO、NO2、NO3、N2O3、N2O4、N2O5、N2Oおよびこれらの混合物の一種以上の窒素酸化物を含む滅菌剤ガスに対象物を暴露することによる対象物を滅菌または除染するシステム、装置、および方法。前記滅菌剤ガスの発生源は、滅菌剤ガス発生組成物により発生させてもよいし、滅菌剤ガスの発生源より供給してもよい。【選択図】図4
請求項(抜粋):
対象物を滅菌するに十分な時間、対象物を滅菌剤ガスに暴露する工程を含む対象物を滅菌する方法であって、該滅菌剤ガスが一種以上の窒素酸化物を含むことを特徴とする方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (14件):
4C058AA14
, 4C058BB07
, 4C058CC02
, 4C058DD01
, 4C058DD02
, 4C058DD03
, 4C058DD04
, 4C058DD05
, 4C058DD06
, 4C058DD11
, 4C058EE26
, 4C058JJ16
, 4C058JJ28
, 4C058JJ29
引用特許:
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