特許
J-GLOBAL ID：200903060533411701

ゲル状洗浄組成物

発明者：
大森 隆司

大森 隆司 について

, 
増田 政彦

増田 政彦 について


出願人/特許権者：
株式会社資生堂

株式会社資生堂 について


代理人 (1件)： 岩橋 祐司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-207368
公開番号（公開出願番号）：特開2006-028062
出願日： 2004年07月14日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】 使用感触が良好で、経時安定性に優れたゲル洗浄組成物を提供する。【解決手段】 (a)下記式(I)で示され、分子量が1000以上であるブロック型アルキレンオキシド誘導体と、 (b)ショ糖脂肪酸エステルと、 (c)分子内に3個以上の水酸基を有する多価アルコールと、 (d)油分とを含有することを特徴とするゲル状洗浄組成物。(化1) R1O-[(AO)m(EO)n]-R2 (I)(式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、1≦m≦70、1≦n≦70である。AOとEOはブロック状に付加しており、AOとEOの合計に対するEOの割合は20〜80質量%である。R1およびR2は同一もしくは異なっていてもよく炭素数1〜4の炭化水素基または水素原子であり、R1およびR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合は0.15以下である。)
請求項（抜粋）：
(a)下記式(I)で示され、分子量が1000以上であるブロック型アルキレンオキシド誘導体と、 (b)ショ糖脂肪酸エステルと、 (c)分子内に3個以上の水酸基を有する多価アルコールと、 (d)油分とを含有することを特徴とするゲル状洗浄組成物。 (化1) R1O-[(AO)m(EO)n]-R2 (I) (式中、AOは炭素数3〜4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、mおよびnはそれぞれ前記オキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦m≦70、1≦n≦70である。炭素数3〜4のオキシアルキレン基とオキシエチレン基はブロック状に付加しており、炭素数3〜4のオキシアルキレン基とオキシエチレン基の合計に対するオキシエチレン基の割合は20〜80質量%である。R1およびR2は同一もしくは異なっていてもよく炭素数1〜4の炭化水素基または水素原子であり、R1およびR2の炭化水素基数に対する水素原子数の割合は0.15以下である。)
IPC (7件)：
A61K 8/00 ,  A61Q 1/14 ,  A61K 8/02 ,  C11D 1/68 ,  C11D 1/722 ,  C11D 3/20 ,  C11D 17/00
FI (6件)：
A61K7/02 A ,  A61K7/00 R ,  C11D1/68 ,  C11D1/722 ,  C11D3/20 ,  C11D17/00
Fターム (56件)：
4C083AC022 ,  4C083AC111 ,  4C083AC112 ,  4C083AC121 ,  4C083AC122 ,  4C083AC131 ,  4C083AC132 ,  4C083AC292 ,  4C083AC302 ,  4C083AC352 ,  4C083AC372 ,  4C083AC422 ,  4C083AC432 ,  4C083AC532 ,  4C083AC792 ,  4C083AD041 ,  4C083AD042 ,  4C083AD051 ,  4C083AD052 ,  4C083AD112 ,  4C083AD152 ,  4C083AD162 ,  4C083AD221 ,  4C083AD222 ,  4C083AD302 ,  4C083BB04 ,  4C083BB05 ,  4C083BB11 ,  4C083BB41 ,  4C083CC01 ,  4C083CC02 ,  4C083CC23 ,  4C083CC38 ,  4C083DD27 ,  4C083DD31 ,  4C083DD41 ,  4C083EE01 ,  4C083EE06 ,  4C083EE07 ,  4C083EE11 ,  4H003AB23 ,  4H003AC04 ,  4H003AC12 ,  4H003AC23 ,  4H003BA15 ,  4H003DA02 ,  4H003EB04 ,  4H003EB05 ,  4H003EB08 ,  4H003EB09 ,  4H003EB37 ,  4H003EB41 ,  4H003ED03 ,  4H003ED29 ,  4H003FA16 ,  4H003FA21
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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