特許
J-GLOBAL ID：200903060563604679

汚れ拭取材及びその製造方法

発明者：
中野 陽祐

中野 陽祐 について

, 
近藤 敏

近藤 敏 について


出願人/特許権者：
株式会社イノアックコーポレーション

株式会社イノアックコーポレーション について


代理人 (1件)： 小島 清路 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-236960
公開番号（公開出願番号）：特開2003-051479
出願日： 2001年08月03日
公開日（公表日）： 2003年02月21日
要約：
【要約】【課題】 ポリウレタンフォームからなり、十分な保水性及び汚れ拭取性を有する汚れ拭取材及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の汚れ拭取材は、化学機械研磨されたシリコンウェハの表面の汚れを除去するための汚れ拭取材であって、除膜処理され、三次元網目構造を有するポリウレタンフォームからなる。ポリウレタンフォームにはシリコンが含有されておらず、且つセル径が300〜3000μmであり、セル径は、特に500〜2000μm、更には1000〜1500μmであることが好ましい。このポリウレタンフォームは、シリコン系界面活性剤を除く界面活性剤、アミン触媒、及び水を含むフォーム原料を反応させ、その後、除膜処理することにより製造することができる。界面活性剤としては、HLB値が9〜20のノニオン系界面活性剤が好ましい。更に、金属触媒は用いないことが好ましい。
請求項（抜粋）：
化学機械研磨されたシリコンウェハの表面の汚れを除去するための汚れ拭取材において、該汚れ拭取材は連続気泡構造を有するポリウレタンフォームからなり、該ポリウレタンフォームにはシリコンが含有されておらず、且つセル径が300〜3000μmであることを特徴とする汚れ拭取材。
IPC (7件)：
H01L 21/304 644 ,  H01L 21/304 622 ,  C08G 18/00 ,  C08G 18/18 ,  C08G 18/82 ,  C08J 9/38 CFF ,  C08G101:00
FI (7件)：
H01L 21/304 644 G ,  H01L 21/304 622 Q ,  C08G 18/00 G ,  C08G 18/18 ,  C08G 18/82 ,  C08J 9/38 CFF ,  C08G101:00
Fターム (26件)：
4F074AA78 ,  4F074BA34 ,  4F074CA25 ,  4F074CD01 ,  4F074DA03 ,  4F074DA59 ,  4J034BA03 ,  4J034DA01 ,  4J034DB03 ,  4J034DB07 ,  4J034DF01 ,  4J034DG00 ,  4J034DQ01 ,  4J034HA01 ,  4J034HA07 ,  4J034HC12 ,  4J034HC64 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034KD12 ,  4J034KE02 ,  4J034LA36 ,  4J034NA03 ,  4J034NA07 ,  4J034QC01 ,  4J034RA19
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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