特許
J-GLOBAL ID：200903060638019629
有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-345469
公開番号（公開出願番号）：特開2007-149589
出願日： 2005年11月30日
公開日（公表日）： 2007年06月14日
要約：
【課題】製造工程を長くすることなく、生産性が高く、高品質で多層化対応が取れた有機EL素子の製造方法の提供。【解決手段】帯状可撓性基材上に少なくとも第1電極と、第1有機化合物層と、第2有機化合物層と、第2電極と、封止層とを順次積層した少なくとも一つの有機EL素子を、帯状可撓性基材供給工程と、第1電極形成工程と、第1有機機能層形成工程と、第2有機機能層形成工程と、第2電極形成工程と、封止層形成工程とを有する製造工程を使用し、前記有機EL素子を製造する有機EL素子の製造方法において、前記第1電極形成工程、前記第1有機機能層形成工程、前記第2有機機能層形成工程、前記第2電極形成工程、封止層形成工程の何れかの工程が終了した後、前記帯状可撓性基材をロール状に巻き取り回収し、不活性ガス雰囲気にて保管することを特徴とする有機EL素子の製造方法。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
帯状可撓性基材上に少なくとも第1電極(陽極層)と、第1有機化合物層と、第2有機化合物層と、第2電極(陰極層)と、封止層とを順次積層した少なくとも一つの有機エレクトロルミネッセンス素子を、少なくとも帯状可撓性基材供給工程と、第1電極(陽極層)形成工程と、第1有機機能層形成工程と、第2有機機能層形成工程と、第2電極(陰極層)形成工程と、封止層形成工程とを有する製造工程を使用し、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、
少なくとも前記第1電極(陽極層)形成工程、前記第1有機機能層形成工程、前記第2有機機能層形成工程、前記第2電極(陰極層)形成工程の何れかの工程が終了した後、
前記第1電極(陽極層)と、前記第1有機化合物層と、前記第2有機化合物層と、前記第2電極(陰極層)の何れかが積層された前記帯状可撓性基材をロール状に巻き取り回収し、不活性ガス雰囲気にて保管することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, G09F 9/00
H05B33/10
, H05B33/14 A
, G09F9/00 338
3K007AB12
, 3K007AB18
, 3K007BA01
, 3K007CA06
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 3K007FA03
, 5G435AA13
, 5G435AA14
, 5G435AA17
, 5G435BB05
, 5G435KK05
, 5G435KK10
