特許

J-GLOBAL ID：200903060689400645

ポリマー含浸静電チャックおよび製造方法

発明者： ケニース エス. コリンズ ,  ジョシュア-チウ-ウィン ツイ ,  ダグラス ブッチバーガー
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-004233
公開番号（公開出願番号）：特開平8-274151
出願日： 1996年01月12日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：

【要約】【目的】 改良された静電チャックと、該チャックの製造方法を提供する。【構成】 ペデスタル金属銅表面と、該ペデスタルの銅表面上に形成した多孔性の誘電物質層とを有する静電チャック。該誘電層は耐プラズマシーラントで含浸されてなる。

請求項（抜粋）：

(a) 金属銅表面を有するペデスタルと、(b) 前記ペデスタルの前記銅表面上に形成される多孔性誘電物質の層で、耐プラズマシーラントを含浸してなる層とを有する静電チャック。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H02N 13/00

FI (3件)：

H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  H02N 13/00 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-260949
  
• 特開昭61-260949
  
• 静電チャック
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-344893   出願人：住友金属工業株式会社
• 静電チャック基板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-091233   出願人：信越化学工業株式会社