特許
J-GLOBAL ID：200903060703432288

研磨基布および研磨方法

発明者：
田中 学

田中 学 について

, 
鈴木 義行

鈴木 義行 について

, 
北脇 秀亮

北脇 秀亮 について


出願人/特許権者：
帝人株式会社

帝人株式会社 について


代理人 (1件)： 前田 純博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-372467
公開番号（公開出願番号）：特開2003-170347
出願日： 2001年12月06日
公開日（公表日）： 2003年06月17日
要約：
【要約】【課題】 磁気記録媒体等の表面にテクスチャー加工等の精密研磨を行う際に、研磨条件の変動で基板表面に深い溝(スクラッチ)を生じない均一に研磨できる研磨基布を提供すること。【解決手段】 2μm以下の極細繊維を含む基布であって、一方の表面側における吸水高さが20mm/時間以上であり、その反対側における吸水高さが5mm/時間以下である研磨基布。一方の表面には親水性の層を有し、かつその層は500μm以下の厚さを有することが好ましい。また、基布が繊維質基材と高分子重合体から構成され、さらに繊維質基材を構成する繊維が20本以上の極細繊維が収束してなる繊維束であることが好ましい。
請求項（抜粋）：
2μm以下の極細繊維を含む基布であって、一方の表面側における吸水高さが20mm/時間以上であり、その反対側における吸水高さが5mm/時間以下であることを特徴とする研磨基布。
IPC (5件)：
B24B 37/00 ,  C08J 5/14 CER ,  C08J 5/14 CFF ,  G11B 5/84 ,  C08L101:00
FI (5件)：
B24B 37/00 C ,  C08J 5/14 CER ,  C08J 5/14 CFF ,  G11B 5/84 A ,  C08L101:00
Fターム (18件)：
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058CB01 ,  3C058CB03 ,  3C058DA17 ,  4F071AA12 ,  4F071AA12X ,  4F071AA22 ,  4F071AA22X ,  4F071AA33 ,  4F071AA33X ,  4F071AA52 ,  4F071AA53 ,  4F071DA19 ,  5D112AA02 ,  5D112BA03 ,  5D112BA06 ,  5D112GA09
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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