特許
J-GLOBAL ID：200903060762749287

光線成形及び均一化のためのランダムマイクロレンズアレイ

発明者：
セールス タッソ アール. エム.

セールス タッソ アール. エム. について


出願人/特許権者：
コーニング・インコーポレーテッド

コーニング・インコーポレーテッド について


代理人 (1件)： 藤村 元彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-537678
公開番号（公開出願番号）：特表2006-500621
出願日： 2003年08月21日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：
確率分布に従って互いに異なるマイクロレンズによってマイクロレンズアレイが形成されて、所定の遠距離場散乱パターン内に所定の強度分布を有する光ビームを形成する。このマイクロレンズの違いは、マイクロレンズの表面形状に対応するサグ分布におけるランダム偏差、マイクロレンズの境界に対応する境界分布、及び、アレイ内のマイクロレンズの相対的位置に対応する空間分布を含む。サグ分布偏差は光ビームの強度分布を均一化するのに用いられ得る。不規則空間分布内の境界分布偏差が所定の散乱パターン内に光ビームの所定の強度分布を与えるために使用され得る。
請求項（抜粋）：
所定の遠距離場散乱パターン内に所定の強度分布による光ビームを成形するための光学装置であって、光学基板と、前記光学基板上に配置されたマイクロレンズのアレイと、を含み、 前記マイクロレンズの各々は、前記アレイの他のマイクロレンズを定義するパラメータの1組とは異なる1組のパラメータによって前記アレイ内に定義され、 前記パラメータは、前記マイクロレンズの表面形状に対応するサグ分布、前記マイクロレンズの境界に対応する境界分布、及び、前記アレイ内の前記マイクロレンズの相対的位置に対応する空間分布を含み、 前記サグ分布は、前記アレイの前記マイクロレンズの間で変化して前記光学ビームの前記強度分布を均一化し、 前記境界分布は、不規則空間分布内の前記マイクロレンズ間で変化して所望の遠距離場散乱パターン内に所定の強度分布を与えることを特徴とする光学装置。
IPC (3件)：
G02B 3/00 ,  G02B 5/18 ,  G03B 21/62
FI (4件)：
G02B3/00 A ,  G02B3/00 B ,  G02B5/18 ,  G03B21/62
Fターム (5件)：
2H021BA21 ,  2H049AA04 ,  2H049AA18 ,  2H049AA64 ,  2H049AA65
引用特許：
審査官引用 (8件)
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