特許
J-GLOBAL ID：200903060835314268

ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
樽谷 晋司

樽谷 晋司 について

, 
田口 紀彦

田口 紀彦 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-263059
公開番号（公開出願番号）：特開2008-083369
出願日： 2006年09月27日
公開日（公表日）： 2008年04月10日
要約：
【課題】PEB温度依存性、ラインエッジラフネス(LWR)、ダーク/ブライトパターン形状差、及び現像欠陥について、高次元での両立を可能にしたポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有する繰り返し単位(A1)、及びラクトン構造を有し、且つシアノ基を有さない繰り返し単位(A2)を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(C)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)ラクトン構造を有し、且つシアノ基を有する繰り返し単位(A1)、及びラクトン構造を有し、且つシアノ基を有さない繰り返し単位(A2)を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び (C)溶剤 を含有するポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/34
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/34
Fターム (34件)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100AL08T ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA16T ,  4J100BA40P ,  4J100BC03S ,  4J100BC04S ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC08S ,  4J100BC08T ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA06 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-209680   出願人：富士写真フイルム株式会社
審査官引用 (2件)

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