特許
J-GLOBAL ID：200903060903707516
電子ビーム描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 日東国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-162314
公開番号（公開出願番号）：特開2006-339404
出願日： 2005年06月02日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】本発明の課題は可変成形型電子ビーム描画装置における高分解能ビーム寸法補正方法を高速かつ低コストで提供し、高精度の電子ビーム露光を実現することである。【解決手段】本発明は、ビーム電流測定でビーム寸法を多項式で近似し、各次数でオフセットおよび回転係数の寄与の大きい微細寸法領域をあらかじめ校正して、ゲイン係数はxy座標方向に独立にオフセット係数を加え、高次の台形係数はビーム寸法大領域でその傾斜歪が最小となるように校正するものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
電子ビームを成形絞りを用いて矩形に成形しその寸法を描画データに応じて可変するビーム制御システムを有する電子ビーム描画装置において、
前記ビーム制御システムは、前記電子ビームの寸法の微小側から一定幅の寸法測定範囲を指定して前記成形絞りを透過または反射する電流を計測し、前記成形絞りで絞られたビーム面積で除算して電流密度として算定し、算定された電流密度と基準寸法電流密度との間の誤差比を最小とする寸法補正係数のオフセット係数および回転係数を合わせて補正することを特徴とする電子ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01J 37/305
H01L21/30 541E
, G03F7/20 504
, H01J37/305 B
, H01L21/30 541N
2H097CA16
, 2H097LA10
, 5C034BB10
, 5F056AA04
, 5F056BA01
, 5F056BA05
, 5F056BC01
, 5F056CB07
, 5F056CC11
, 5F056CD18
, 5F056EA04
出願人引用 (2件)
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特許第2625219号公報。
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特公平7-107893号公報。
審査官引用 (6件)
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