特許
J-GLOBAL ID：200903060953945159

結晶方位測定方法およびそれに用いる試料ホルダー

発明者：
伊藤 研二

伊藤 研二 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-006558
公開番号（公開出願番号）：特開2006-194743
出願日： 2005年01月13日
公開日（公表日）： 2006年07月27日
要約：
【課題】 単結晶試料の結晶方位を高精度に測定する。【解決手段】 後方散乱電子線回折パターン法(EBSP法)を用いて、同じ試料座標上で外形形状と結晶方位の位置関係が明確な基準試料を用いて比較測定する事で、被検体の外形形状と結晶方位の位置関係を明確にする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被検体の結晶方位を測定する方法であって、 被検体と結晶方位が予め求められている基準試料とを並べて保持し、 前記基準試料の結晶方位から前記被検体の結晶方位を求めることを特徴とする結晶方位測定方法。
IPC (1件)：
G01N 23/207
FI (1件)：
G01N23/207
Fターム (11件)：
2G001AA03 ,  2G001BA15 ,  2G001BA18 ,  2G001CA03 ,  2G001DA09 ,  2G001FA02 ,  2G001GA01 ,  2G001KA08 ,  2G001LA11 ,  2G001QA01 ,  2G001RA01
引用特許：
出願人引用 (8件)
  • 特開平4-225152号公報(第2頁、図4)
  • 特開平2-264851
  • 特開平3-095446
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審査官引用 (11件)
  • 走査電子顕微鏡
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-079147   出願人：株式会社日立製作所, 株式会社日立サイエンスシステムズ
  • 特開平2-264851
  • 特開平2-264851
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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