有機物除去方法及び装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：重野剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-068881
公開番号（公開出願番号）：特開2008-229417
出願日： 2007年03月16日
公開日（公表日）： 2008年10月02日
要約：

【課題】電子デバイス製造工程から排出されるリンス排水等の有機物を含有する水の回収再利用に好適に用いることができる、水中の有機物除去方法及び装置を提供する。【解決手段】有機物含有排水にペルオキシド基を含む硫黄化合物及び必要に応じてpH調整剤を添加した後紫外線酸化処理を行い、紫外線酸化処理水を必要に応じてpH調整した後、残存する酸化剤を除去し、その酸化剤除去処理水を脱イオン処理する。原水にペルオキシド基を含む硫黄化合物を添加して紫外線酸化処理を行うことにより、酸化力が非常に高い硫酸ラジカルを発生させ、この硫酸ラジカルにより、原水中に存在する有機物をイオン性有機物に形態変化させ、これを脱イオン処理で除去する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

有機物含有排水にペルオキシド基を含む硫黄化合物を添加する薬剤添加工程と、該薬剤添加工程の処理水に紫外線を照射する紫外線酸化工程と、該紫外線酸化工程の処理水中の酸化剤を除去する酸化剤除去工程と、該酸化剤除去工程の処理水を脱イオン処理する脱イオン工程とを備えてなることを特徴とする有機物除去方法。

IPC (8件)：

C02F 1/72 , C02F 1/74 , C02F 1/70 , C02F 1/42 , C02F 1/32 , C02F 1/20 , B01D 19/00 , C02F 9/00

FI (16件)：

C02F1/72 Z , C02F1/72 101 , C02F1/74 , C02F1/70 Z , C02F1/42 C , C02F1/32 , C02F1/20 A , B01D19/00 101 , B01D19/00 H , B01D19/00 F , C02F9/00 502J , C02F9/00 502N , C02F9/00 502R , C02F9/00 504B , C02F9/00 503C , C02F9/00 502Z

Fターム (38件)：

4D011AA15 , 4D011AA16 , 4D011AA17 , 4D011AD03 , 4D025AA09 , 4D025BB01 , 4D025DA01 , 4D025DA04 , 4D025DA10 , 4D037AA13 , 4D037AB01 , 4D037AB02 , 4D037AB11 , 4D037AB12 , 4D037AB13 , 4D037BA18 , 4D037BA23 , 4D037BB01 , 4D037BB09 , 4D037CA03 , 4D037CA09 , 4D037CA11 , 4D037CA15 , 4D050AA12 , 4D050AB07 , 4D050AB12 , 4D050AB14 , 4D050AB17 , 4D050AB18 , 4D050AB40 , 4D050BA06 , 4D050BB01 , 4D050BB20 , 4D050BC09 , 4D050BD08 , 4D050CA03 , 4D050CA08 , 4D050CA13

引用特許：

出願人引用 (3件)

有機物含有排水の酸化処理法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-086364 出願人：栗田工業株式会社
有機物含有排水の処理方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-263540 出願人：オルガノ株式会社
難分解性有機物含有排水の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-094655 出願人：株式会社荏原製作所

審査官引用 (6件)

有機物含有水の処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-113185 出願人：オルガノ株式会社
超純水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-070511 出願人：野村マイクロ・サイエンス株式会社
汚水浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-071058 出願人：三浦工業株式会社, 株式会社日立製作所, 日本ウォーターシステム株式会社

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