特許

J-GLOBAL ID：200903060979451197

熱的機械的安定金属/多孔質基体複合膜の形成方法

発明者： アショック・エス・ダムル
出願人/特許権者： リサーチ・トライアングル・インスティチュート
代理人 (8件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-553048
公開番号（公開出願番号）：特表2004-500484
出願日： 2001年01月22日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：

本方法は、めっきされる金属の溶液を多孔質基体の第1面上に流す段階と、多孔質基体がガスから金属の溶液を分離するように、同時にガスの圧力を多孔質基体の第2面上に付与する段階とを備える金属/多孔質基体複合膜を形成するために提供され、かつ高精製された水素ガスを製造するための生成膜の使用を提供している。

請求項（抜粋）：

多孔質基体の第1面上にめっきされる金属の溶液を流する段階と、 同時に、前記多孔質基体がガスから前記金属の溶液を分離するように、前記第1面とは反対の前記多孔質基体の第2面にガスの圧力を付与する段階と、 を含むことを特徴とする金属めっきされた多孔質基体を製造するための方法

IPC (4件)：

C23C18/31 ,  C23C18/18 ,  C23C18/42 ,  H01M8/06

FI (4件)：

C23C18/31 A ,  C23C18/18 ,  C23C18/42 ,  H01M8/06 G

Fターム (26件)：

4K022AA02 ,  4K022AA04 ,  4K022AA33 ,  4K022AA37 ,  4K022AA43 ,  4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA18 ,  4K022BA32 ,  4K022BA36 ,  4K022CA03 ,  4K022CA05 ,  4K022CA07 ,  4K022CA13 ,  4K022CA16 ,  4K022CA18 ,  4K022DA01 ,  4K022DB01 ,  4K022DB05 ,  4K022DB13 ,  4K022DB24 ,  5H027AA02 ,  5H027BA16 ,  5H027DD05

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 水素分離膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-180165   出願人：松下電器産業株式会社
• ガス分離体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-167669   出願人：日本碍子株式会社
• 金属表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-056484   出願人：株式会社椿本チエイン
• 水素透過膜及びその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-103695   出願人：東京瓦斯株式会社
• 特開平4-221079