特許
J-GLOBAL ID：200903079165505809
ガス分離体
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-167669
公開番号（公開出願番号）：特開平10-113544
出願日： 1997年06月24日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：
【要約】【課題】 効率的なガス分離が可能で、原料ガスが精製ガス内に漏洩することがなく、ガス分離膜の剥離が極めて起こりにくく、耐久性に優れたガス分離体を提供する。【解決手段】 多孔質基体2と、ガス分離能を有する金属3とを有するガス分離体1である。多孔質基体2が、0.4〜0.9μmの平均細孔径を有する小孔5を有し、ガス分離能を有する金属3が、多孔質基体2の表面に開いている小孔5の内部に充填して閉塞する。
請求項（抜粋）：
多孔質基体と、ガス分離能を有する金属とを有するガス分離体であって、当該多孔質基体が0.4〜0.9μmの平均細孔径を有する小孔を有し、当該ガス分離能を有する金属が当該多孔質基体の表面に開いている小孔の内部を充填して閉塞することを特徴とするガス分離体。
IPC (3件)：
B01D 71/02 500
, B01D 69/10
, C01B 3/56
B01D 71/02 500
, B01D 69/10
, C01B 3/56 Z
