特許
J-GLOBAL ID：200903061054574740
基板の平面度を静電的に維持する方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-194362
公開番号（公開出願番号）：特開平11-074333
出願日： 1998年07月09日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 処理チャンバ内で支持体層上に基板を保持する装置及び方法を得ることを目的とする。【解決手段】 本発明方法は、基板を支持体層から所定の距離に位置決めする工程と、処理チャンバ内でプラズマを誘起する工程と、基板が支持体層と係合する点まで基板を下げる工程と、所定の時間プラズマを維持する工程を含む。本発明装置は、基板が静電的に本質的に平らに保持される処理チャンバ用のサセプタシステムに向けられる。本発明装置は、基板支持体及びこの基板支持体上に配置され誘電体で構成された支持体層を含む。少なくとも1つの昇降ピンが、支持体層に対応する基板を支えるために使用される。支持体層に対応する各昇降ピンを動かす手段が設けられている。また、処理チャンバ内にプラズマを作り出す手段が設けられている。
請求項（抜粋）：
処理チャンバ内の支持体層上に基板を保持する方法であって、前記基板を前記支持体層から所定の距離に位置決めする工程と、プレート電荷誘起プラズマを前記処理チャンバ内に誘起する工程と、前記基板を前記支持体層上に下げる工程と、所定時間前記プラズマを維持する工程とを含むことを特徴とする方法。
引用特許：
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