特許
J-GLOBAL ID：200903061082167085
近視野光発生素子の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂上 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-308564
公開番号（公開出願番号）：特開2003-114183
出願日： 2001年10月04日
公開日（公表日）： 2003年04月18日
要約：
【要約】【課題】 今までの微小散乱体を有する近視野光発生素子では、分解能の向上や検出器で得られる光強度の増大をはかることはできるが、近視野光発生素子の作製に高価な製造装置が必要であり、大量生産できず、SNOM装置や光メモリ装置の低コスト化が困難であるという課題があった。【解決手段】 光を照射することによりプラズモンを生成する微小散乱体を開口の内部にもつ近視野光発生素子の作製方法において、光伝搬体の表面に前記微小散乱体を形成する微小散乱体形成工程101と、前記光伝搬体の屈折率より低い低屈折率材を前記光伝搬体に接触させ、前記光伝搬体と低屈折率材との界面で全反射条件を満たす露光光束により微小散乱体マスク部を形成する微小散乱体マスク部形成工程102と、前記微小散乱体マスク部を用いて前記微小散乱体が前記開口の内部に配置されるように前記開口を形成する開口形成工程103とを含む方法とした。
請求項（抜粋）：
光を照射することによりプラズモンを生成する微小散乱体を開口の内部にもつ近視野光発生素子の作製方法において、光伝搬体の表面に前記微小散乱体を形成する微小散乱体形成工程と、前記光伝搬体の屈折率より低い低屈折率材を前記光伝搬体に接触させ、前記光伝搬体と前記低屈折率材との界面での全反射条件を満たす露光光束をもちいて前記微小散乱体を覆うように前記光伝搬体の表面に微小散乱体マスク部を形成する微小散乱体マスク部形成工程と、前記微小散乱体マスク部を用いて前記微小散乱体が前記開口の内部に配置されるように前記開口を形成する開口形成工程と、を含むことを特徴とする近視野光発生素子の作製方法。
引用特許：
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