リソグラフィ装置およびデバイスの製造方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：浅村皓 , 浅村肇 , 森徹 , 吉田裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-189555
公開番号（公開出願番号）：特開2006-018286
出願日： 2005年06月29日
公開日（公表日）： 2006年01月19日
要約：

【課題】汚染物質によるレンズ・アレイの損傷をなくすか実質的に低減するリソグラフィ装置および方法を提供する。【解決手段】投影システム108は、アレイ内の各レンズが、基板114上にパターン化したビームの各部分の焦点を結ぶように、基板114からある間隔のところに位置するレンズのアレイを備える。変位システムは、レンズ・アレイと基板との間で相対的変位を行う。粒子検出装置は、レンズ・アレイと基板との間の相対的変位により、レンズ・アレイに近づく基板上の粒子を検出するために位置する。自由作動間隔制御システムは、相対的変位により検出した粒子がレンズ・アレイを通過する場合に、レンズ・アレイを基板から遠ざけるように、検出装置の粒子の検出に応じてレンズ・アレイと基板との間の間隔を広くするように配置されている。それ故、例えば、基板表面上に位置する粒子による掻き傷によるレンズ・アレイへの損傷を避けることができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置であって、放射線のビームを供給する照明システムと、ビームをパターン形成するパターニング・システムと、パターン化したビームを基板の目標部分上に投影し、レンズ・アレイ内の各レンズが前記基板上に前記パターン化したビームの各部分の焦点を結ぶように、基板からある間隔のところに位置するレンズ・アレイを備える投影システムと、前記レンズ・アレイと前記基板との間の間隔を広げるために、前記レンズ・アレイと前記基板間で相対的変位を行う変位システムと、前記レンズ・アレイと前記基板との間の相対的変位により、前記レンズ・アレイに近づく前記基板上の粒子を検出する粒子検出装置と、相対的変位により前記検出した粒子が前記レンズ・アレイの下を通過する場合に、前記変位システムにより前記基板からレンズ・アレイを遠ざけるように、前記粒子検出装置の粒子の検出に応じて前記レンズ・アレイと前記基板との間の間隔を広げる自由作動間隔制御システムとを備えるリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F7/20 501 , H01L21/30 529

Fターム (9件)：

2H097AA03 , 2H097AB05 , 2H097BA03 , 2H097BA04 , 5F046BA07 , 5F046CB02 , 5F046CB12 , 5F046CB18 , 5F046CB25

引用特許：

審査官引用 (6件)

マイクロリトグラフィ用マイクロレンズスキャナ及び広フィールド共焦顕微鏡
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-532621 出願人：ジョンソンケニスシー
X線露光法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-130467 出願人：株式会社日立製作所, 株式会社ソルテック
レンズ汚染を防止した投影露光装置およびそれを用いた半導体デバイス製造プロセス
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-070123 出願人：キヤノン株式会社

全件表示

前のページに戻る