特許
J-GLOBAL ID：200903061089479554
レーザアブレーション法を用いた成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-080682
公開番号（公開出願番号）：特開平6-293958
出願日： 1993年04月07日
公開日（公表日）： 1994年10月21日
要約：
【要約】【目的】 複数の層からなる膜および複数の元素が混合された膜を工業的に成膜することができる、レーザアブレーション法を用いた成膜方法を提供する。【構成】 互いに元素あるいは組成の異なる2種以上の物質を分割して配置することによりターゲットを作製するステップと、基板上に2種以上の異なった膜が積層されるような回転速度、もしくは基板上に2種以上の異なった元素が混合された膜が形成されるような回転速度で、ターゲットを回転させながらターゲットにレーザを照射して、基板上に2種以上の異なった膜を積層して成膜、もしくは基板上に2種以上の異なった元素が混合された膜を形成するステップとを備える。
請求項（抜粋）：
レーザアブレーション法を用いた成膜方法であって、互いに元素あるいは組成の異なる2種以上の物質を分割して配置することによりターゲットを作製するステップと、基板上に2種以上の異なった膜が積層されるような回転速度で前記ターゲットを回転させながら、前記ターゲットにレーザを照射して、基板上に2種以上の異なった膜を積層して成膜するステップとを備える、レーザアブレーション法を用いた成膜方法。
IPC (2件)：
引用特許：
審査官引用 (6件)
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結晶薄膜の作製法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-066786
出願人：三菱化成株式会社
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特公昭63-038428
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特開昭64-043917
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