特許

J-GLOBAL ID：200903061111811177

基板吸着装置、チャックおよび保持装置ならびにそれらを用いた露光装置

発明者： 伊藤 敦史 ,  江本 圭司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-343676
公開番号（公開出願番号）：特開2005-109358
出願日： 2003年10月01日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

【課題】安全且つ、確実に基板を平面矯正し、オーバーレイ精度やスループットの向上を図る。【解決手段】基板吸着部101の形状を、基板を吸着保持する静電吸着機構の第1の突起群102と、それよりも各突起の搭載面面積と最小間隔の小さい真空吸着機構の第2の突起群103とで構成し、真空吸着で基板を平面矯正し、基板を平面矯正した後に静電吸着して、基板を平面に維持する。平面を保った状態で露光装置の基板処理室へ搬送するよう構成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空吸着機構と静電吸着機構を有する基板吸着部を備える基板吸着装置において、前記基板吸着部は少なくともリング状の縁堤と第1および第2の突起群とを形成された基板載置面を有し、第1の突起群の各突起は第2の突起群の各突起よりも載置面面積および最小間隔が大きいことを特徴とする基板吸着装置。

IPC (4件)：

H01L21/68 ,  B23Q3/08 ,  H01L21/027 ,  H02N13/00

FI (5件)：

H01L21/68 R ,  H01L21/68 P ,  B23Q3/08 A ,  H02N13/00 D ,  H01L21/30 503C

Fターム (15件)：

3C016DA02 ,  3C016DA15 ,  5F031CA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA13 ,  5F031HA16 ,  5F031MA27 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031MA33 ,  5F031PA13 ,  5F031PA18 ,  5F046CC08 ,  5F046CC10

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 静電吸着装置およびその吸着方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-348175   出願人：株式会社日立製作所
• 特許第2633516号公報
  
• 電子ビーム露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-342260   出願人：株式会社東京精密

審査官引用 (3件)

• 絶縁型静電チャックと励起方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-008378   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• 特開平4-147643
  
• 搬送用ロボットの試料把持部の静電チャックへの供電手段
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-238906   出願人：日本真空技術株式会社