特許
J-GLOBAL ID：200903061197364984

真空処理システムおよび基板搬送方法

発明者：
宮下 哲也

宮下 哲也 について

, 
平田 俊治

平田 俊治 について

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原 正道

原 正道 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-233724
公開番号（公開出願番号）：特開2009-062604
出願日： 2007年09月10日
公開日（公表日）： 2009年03月26日
要約：
【課題】他の処理チャンバからの汚染をもたらさず、スループットを低下させずに各処理チャンバで処理を行うことができる真空処理システムを提供すること。【解決手段】真空処理システム1は、ウエハWを搬送する第1の搬送室11にPVD処理チャンバ12〜15を接続してなる第1の処理部2と、ウエハを搬送する第2の搬送室21にCVD処理チャンバ22,23を接続してなる第2の処理部と、第1の搬送室11および第2の搬送室12の間にゲートバルブGを介して設けられ、ウエハWを収容し、かつ圧力調整可能なバッファ室5aと、バッファ室5aが第1の搬送室11および第2の搬送室12のいずれか一方に対して選択的に連通し、その内部の圧力が連通した搬送室内の圧力と適合するようにゲートバルブGの開閉およびバッファ室5aの圧力を制御する制御部110とを具備する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
相対的に低圧で被処理基板に対して真空処理を行う第1の処理チャンバと、前記第1の処理チャンバが接続され、被処理基板を前記第1の処理チャンバに対して搬入出する搬送機構を備え、その内部が前記第1の処理チャンバの処理圧力と適合した真空度に調整される第1の搬送室と、を有する第1の処理部と、 相対的に高圧で被処理体に対して真空処理を行う第2の処理チャンバと、前記第2の処理チャンバが接続され、被処理基板を前記第2の処理チャンバに対して搬入出する搬送機構を備え、その内部が前記第2の処理チャンバの処理圧力と適合した真空度に調整される第2の搬送室と、を有する第2の処理部と、 前記第1の搬送室および前記第2の搬送室の間にゲートバルブを介して設けられ、その内部に被処理基板が収容可能で、かつその内部が圧力調整可能なバッファ室と、 被処理基板を前記第1の搬送室および前記第2の搬送室のいずれか一方から他方へ搬送する際に、前記ゲートバルブを閉じた状態で、前記バッファ室の圧力を前記第1の搬送室および前記第2の搬送室のうち被処理基板が存在するほうの圧力に適合させ、当該被処理基板が存在する搬送室と前記バッファ室との間のゲートバルブを開放してこれらの間を選択的に連通させて、被処理基板を前記バッファ室へ搬入し、前記ゲートバルブを閉じて前記バッファ室を前記第1および第2の搬送室から遮断し、その状態で前記バッファ室の圧力を他方の搬送室の圧力に適合させ、前記バッファ室と前記他方の搬送室との間のゲートバルブを開放して被処理基板を前記バッファ室から他方の搬送室へ搬送するように制御する制御機構と を具備する真空処理システム。
IPC (6件)：
C23C 14/56 ,  H01L 21/677 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/320 ,  H01L 23/52 ,  H01L 21/285
FI (6件)：
C23C14/56 G ,  H01L21/68 A ,  C23C16/44 F ,  H01L21/88 R ,  H01L21/285 C ,  H01L21/285 S
Fターム (57件)：
4K029AA06 ,  4K029BA08 ,  4K029BA17 ,  4K029BC03 ,  4K029BD02 ,  4K029CA05 ,  4K029DC03 ,  4K029DC34 ,  4K029DC35 ,  4K029DC40 ,  4K029EA03 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  4K030BA01 ,  4K030BA18 ,  4K030BA20 ,  4K030BA38 ,  4K030CA04 ,  4K030FA10 ,  4K030GA12 ,  4K030HA04 ,  4K030JA09 ,  4K030KA08 ,  4K030KA11 ,  4K030KA28 ,  4K030LA15 ,  4M104BB04 ,  4M104BB14 ,  4M104BB30 ,  4M104DD39 ,  4M104DD44 ,  4M104FF17 ,  4M104FF18 ,  4M104HH20 ,  5F031CA02 ,  5F031GA45 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA39 ,  5F031MA03 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031NA05 ,  5F031NA08 ,  5F031NA09 ,  5F033HH11 ,  5F033HH18 ,  5F033HH19 ,  5F033HH33 ,  5F033JJ11 ,  5F033JJ18 ,  5F033JJ33 ,  5F033MM08 ,  5F033PP06 ,  5F033PP15 ,  5F033QQ98 ,  5F033XX00
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特開平3-19252号公報
  • 複合型真空処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-087461   出願人：日本真空技術株式会社
審査官引用 (3件)

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