処理装置、移載装置、移載方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-146187
公開番号（公開出願番号）：特開2003-060008
出願日： 2002年05月21日
公開日（公表日）： 2003年02月28日
要約：

【要約】【課題】処理効率が高く、高品質の半導体装置が製造できる処理装置、そのような処理装置に用いられる移載装置および移載方法を提供すること。【解決手段】複数の被処理基体を収容する基体容器を載置可能な基体容器載置台と、基体容器載置台に隣設され、内部を第1の気圧に維持し得る第1の移載室と、第1の移載室の周囲に配設され、第1の気圧下で被処理基体を処理する第1の処理ユニット群と、第1の移載室内に配設され、被処理基体を移載する第1の移載アームと、第1の移載室に隣設され、内部を第2の気圧に維持し得る第2の移載室と、第2の移載室の周囲に配設され、第2の気圧下で被処理基体を処理する第2の処理ユニット群と、第2の移載室に配設された第2の移載アームとを具備し、第1の移載アームおよび/または前記第2の移載アームが、2以上存在する。

請求項（抜粋）：

複数の被処理基体を収容する基体容器を載置可能な基体容器載置台と、前記基体容器載置台に隣設され、内部を第1の気圧に維持し得る第1の移載室と、前記第1の移載室の周囲に配設され、前記第1の気圧下で被処理基体を処理する第1の処理ユニット群と、前記第1の移載室内に配設され、被処理基体を移載する第1の移載アームと、前記第1の移載室に隣設され、内部を第2の気圧に維持し得る第2の移載室と、前記第2の移載室の周囲に配設され、前記第2の気圧下で被処理基体を処理する第2の処理ユニット群と、前記第2の移載室に配設された第2の移載アームとを具備し、前記第1の移載アームおよび/または前記第2の移載アームは、2以上存在することを特徴とする処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 , B65G 49/00 , B65G 49/07 , H01L 21/304 648

FI (5件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/68 N , B65G 49/00 A , B65G 49/07 C , H01L 21/304 648 A

Fターム (23件)：

5F031CA01 , 5F031DA01 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031FA14 , 5F031FA15 , 5F031GA44 , 5F031GA47 , 5F031GA50 , 5F031HA16 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031MA02 , 5F031MA04 , 5F031MA13 , 5F031MA15 , 5F031MA28 , 5F031MA32 , 5F031MA33 , 5F031NA05 , 5F031NA09

引用特許：

審査官引用 (8件)

真空処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-299387 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-328684 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-330055 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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