特許
J-GLOBAL ID：200903061238183590

微小反応炉構成体およびその製造方法

発明者：
小椋 直嗣

小椋 直嗣 について


出願人/特許権者：
カシオ計算機株式会社

カシオ計算機株式会社 について


代理人 (1件)： 花輪 義男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-108763
公開番号（公開出願番号）：特開2003-301295
出願日： 2002年04月11日
公開日（公表日）： 2003年10月24日
要約：
【要約】【課題】 流体化された混合物質を微小な流路内に設けられた触媒による化学反応(触媒反応)により、所望の流体物質を生成する微小反応炉構成体(小型化学反応装置)において、流路内での反応速度を左右する触媒の量を比較的多くする。【解決手段】 アルミニウム基板21の一面に形成された微小な流路22の内壁面には多孔質の陽極酸化膜23が直接形成されている。この場合、アルミニウム基板21の厚さは比較的厚くすることができるため、多孔質の陽極酸化膜23の厚さを比較的厚くすることができ、この比較的厚めの多孔質の陽極酸化膜23に比較的多めの触媒を担持させることができる。また、流路22を形成するためのフォトレジスト31はそのまま陽極酸化用マスクとして用いる。
請求項（抜粋）：
陽極酸化可能な基板と、該基板の一面に形成された微小な反応炉と、該反応炉内に形成された多孔質の陽極酸化膜とを備えていることを特徴とする微小反応炉構成体。
IPC (7件)：
C25D 11/04 ,  B01J 19/00 321 ,  B01J 19/24 ,  B81B 1/00 ,  C25D 11/00 308 ,  C25D 11/18 308 ,  H01M 8/06
FI (7件)：
C25D 11/04 E ,  B01J 19/00 321 ,  B01J 19/24 A ,  B81B 1/00 ,  C25D 11/00 308 ,  C25D 11/18 308 ,  H01M 8/06 A
Fターム (23件)：
4G075AA02 ,  4G075AA39 ,  4G075BA06 ,  4G075BD07 ,  4G075CA02 ,  4G075CA13 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EA02 ,  4G075EA05 ,  4G075EB01 ,  4G075EB23 ,  4G075EC06 ,  4G075FA06 ,  4G075FA14 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FC07 ,  4G075FC15 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16
引用特許：
審査官引用 (4件)
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