内部反射型二次元イメージングエリプソメータ

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-226786
公開番号（公開出願番号）：特開2004-069401
出願日： 2002年08月05日
公開日（公表日）： 2004年03月04日
要約：

【課題】試料の厚さ、光学的性質の二次元的な測定が可能な内部反射型二次元イメージングエリプソメータを提供すること。【解決手段】プリズム部49と入射光学系1と射出光学系3とを含んで構成され、入射光学系1が、光源41-1と、第1のコリメータおよび第1の偏光子を含む入射光学部41とを備え、射出光学系3が、第2の偏光子および二次元検出器を含む射出光学部43と、解析装置43-1とを備え、入射光学系1および射出光学系3のうちの少なくとも一方が、偏光解析パラメータを求めるための複数の測定条件を自動的に設定する測定条件自動設定手段を備え、さらに、プリズム部49、入射光学部41および射出光学部43を支持するとともに、入射光がプリズム2の入射面を経て測定面に照射され、射出光がプリズム2の射出面を経て射出光学部43に射出されるように調節する機能を有する支持手段42を備えている。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

プリズム部と入射光学系と射出光学系とを含んで構成された内部反射型二次元イメージングエリプソメータであって、前記プリズム部に含まれるプリズムが、逆三角形または逆台形の断面形状を有し、該断面形状を有するプリズムは上底面が測定面、該測定面の一端側に隣接する側面が入射面、他端側に隣接する側面が射出面であり、前記入射光学系が、光源部と、第1のコリメータおよび第1の偏光子を含む入射光学部とを含んで構成され、前記射出光学系が、第2の偏光子および該第2の偏光子を通過した射出光を二次元的に検出する二次元検出器を含む射出光学部と、解析装置とを含んで構成され、前記入射光学系および前記射出光学系のうちの少なくとも一方が、偏光解析パラメータを求めるための複数の測定条件を自動的に設定する測定条件自動設定手段を備え、前記プリズム部、前記入射光学部および前記射出光学部を支持するとともに、入射光が前記プリズムの前記入射面を経て前記測定面に照射され、射出光が前記プリズムの前記射出面を経て前記射出光学部に射出されるように調節する機能を有する支持手段とを含んで構成されていることを特徴とする内部反射型二次元イメージングエリプソメータ。

IPC (5件)：

G01B11/06 , G01J4/04 , G01N21/21 , G02B5/04 , G02B5/30

FI (5件)：

G01B11/06 H , G01J4/04 A , G01N21/21 Z , G02B5/04 Z , G02B5/30

Fターム (45件)：

2F065AA30 , 2F065CC31 , 2F065FF04 , 2F065GG02 , 2F065GG03 , 2F065GG04 , 2F065GG07 , 2F065HH03 , 2F065HH12 , 2F065JJ08 , 2F065JJ26 , 2F065LL02 , 2F065LL33 , 2F065LL46 , 2F065LL47 , 2F065QQ18 , 2F065QQ24 , 2F065QQ31 , 2G059AA02 , 2G059BB04 , 2G059BB12 , 2G059CC16 , 2G059DD13 , 2G059EE05 , 2G059GG01 , 2G059GG10 , 2G059HH02 , 2G059HH06 , 2G059JJ01 , 2G059JJ02 , 2G059JJ11 , 2G059JJ12 , 2G059JJ17 , 2G059JJ19 , 2G059KK04 , 2G059LL01 , 2G059MM09 , 2G059MM10 , 2G059NN01 , 2H042CA00 , 2H042CA17 , 2H049BA02 , 2H049BA04 , 2H049BB03 , 2H049BC23

引用特許：

出願人引用 (5件)

反射型測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-348714 出願人：日本分光株式会社
エリプソメトリ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-158991 出願人：三菱重工業株式会社
特開平4-282435

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