エリプソメトリ装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-158991
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352054
出願日： 1998年06月08日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】計測対象が不均一なものである場合でも計測光束中の分布を計測できるエリプソメトリ装置を提供すること。【解決手段】試料1からの反射光の偏光状態を計測することにより前記試料1の状態を測定するエリプソメトリ装置において、前記反射光を偏光する二つ以上の偏光手段(31,32)と、この二つ以上の偏光手段(31,32)にて三つ以上の方向へ偏光された前記反射光を検出する三つ以上の一次元検出素子あるいは二次元検出素子で構成された検出手段(40,41,42)と、これら三つ以上の検出手段(40,41,42)における三つ以上の方位角による偏光成分の一次元あるいは二次元計測結果を基に、前記反射光の偏光状態を計測する計測手段(61)と、を具備。

請求項（抜粋）：

試料からの反射光の偏光状態を計測することにより前記試料の状態を測定するエリプソメトリ装置において、前記反射光を偏光する二つ以上の偏光手段と、この二つ以上の偏光手段にて三つ以上の方向へ偏光された前記反射光を検出する三つ以上の一次元検出素子あるいは二次元検出素子で構成された検出手段と、これら三つ以上の検出手段における三つ以上の方位角による偏光成分の一次元あるいは二次元計測結果を基に、前記反射光の偏光状態を計測する計測手段と、を具備したことを特徴とするエリプソメトリ装置。

IPC (3件)：

G01N 21/21 , G01B 11/06 , G01J 4/04

FI (3件)：

G01N 21/21 Z , G01B 11/06 Z , G01J 4/04 D

引用特許：

審査官引用 (4件)

表面疵の検出方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-091695 出願人：日本鋼管株式会社
表面検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-284581 出願人：日本鋼管株式会社
表面検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-284580 出願人：日本鋼管株式会社

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