特許
J-GLOBAL ID：200903061384689579

薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者：
宮崎 哲夫

宮崎 哲夫 について

, 
前川 和也

前川 和也 について


出願人/特許権者：
ティーディーケイ株式会社

ティーディーケイ株式会社 について


代理人 (1件)： 星宮 勝美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-181141
公開番号（公開出願番号）：特開2002-373403
出願日： 2001年06月15日
公開日（公表日）： 2002年12月26日
要約：
【要約】【課題】 3層以上の多層膜を用いてめっき用のフレームを形成する方法を利用して、微小な磁極幅の磁極を安定して形成する。【解決手段】 先端部と接続部を有するトラック幅規定層はフレームめっき法によって形成される。フレームを形成する工程は、第1の層31、第2の層、第3の層33を形成する工程と、フォトリソグラフィによって、第3の層33に、接続部に対応した形状の第1の開口部33Aを形成する工程と、第3の層33をマスクとして第2の層をエッチングして、第2の層に、開口部33Aに対応した形状の第2の開口部32Aを形成する工程と、集束イオンビームを用いて第2の層をエッチングして、第2の層に、先端部に対応した形状の第3の開口部32Bを形成する工程と、第2の層をマスクとして第1の層31をエッチングして、第1の層31によってフレームを形成する工程とを含む。
請求項（抜粋）：
記録媒体に対向する媒体対向面と、互いに磁気的に連結され、前記媒体対向面側において互いに対向する磁極部分を含み、それぞれ少なくとも1つの層を含む第1および第2の磁性層と、前記第1の磁性層の磁極部分と前記第2の磁性層の磁極部分との間に設けられたギャップ層と、少なくとも一部が前記第1および第2の磁性層の間に、前記第1および第2の磁性層に対して絶縁された状態で設けられた薄膜コイルとを備え、前記第1の磁性層と前記第2の磁性層の少なくとも一方は、記録トラック幅を規定する第1の部分と他の第2の部分とを含むトラック幅規定層を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法であって、前記第1の磁性層を形成する工程と、前記第1の磁性層の上に前記ギャップ層を形成する工程と、前記ギャップ層の上に前記第2の磁性層を形成する工程と、前記薄膜コイルを形成する工程とを備え、前記第1の磁性層を形成する工程と前記第2の磁性層を形成する工程の少なくとも一方は、前記トラック幅規定層の下地の上に、前記トラック幅規定層に対応した形状の開口部を有するフレームを形成する工程と、めっき法によって、前記フレームの開口部内に、前記トラック幅規定層を形成する工程とを含み、前記フレームを形成する工程は、前記トラック幅規定層の下地の上に、少なくとも第1の層、第2の層および第3の層を、この順に形成する工程と、フォトリソグラフィによって、前記第3の層に、前記トラック幅規定層の前記第2の部分に対応した形状の第1の開口部を形成する工程と、前記第1の開口部が形成された前記第3の層をエッチングマスクとして前記第2の層をエッチングして、前記第2の層に、前記第3の層における第1の開口部に対応した形状の第2の開口部を形成する工程と、エッチングマスクを使用しない局部的なエッチング方法を用いて前記第2の層をエッチングして、前記第2の層に、前記トラック幅規定層の前記第1の部分に対応した形状の第3の開口部を形成する工程と、前記第1の層によって前記フレームが形成されるように、前記第2の開口部と前記第3の開口部とが形成された前記第2の層をエッチングマスクとして前記第1の層をエッチングして、前記第1の層に、前記トラック幅規定層に対応した形状の第4の開口部を形成する工程とを含むことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
FI (2件)：
G11B 5/31 D ,  G11B 5/31 A
Fターム (5件)：
5D033BA13 ,  5D033DA04 ,  5D033DA08 ,  5D033DA09 ,  5D033DA31
引用特許：
審査官引用 (4件)
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