特許
J-GLOBAL ID：200903061431089186

ポジ型レジスト組成物

発明者：
難波 克彦

難波 克彦 について

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末次 益実

末次 益実 について

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落合 鋼志郎

落合 鋼志郎 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-075249
公開番号（公開出願番号）：特開2003-345024
出願日： 2003年03月19日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：
【要約】【課題】感度、解像度などの基本的な性能を大きく落とさずにパターンプロファイル、特にラフネスが改良されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)?@それ自体ではアルカリ水溶液に対して不溶性又は難溶性であるが、酸の作用により化学変化を起こしてアルカリ水溶液に可溶性となる樹脂(ただし、ノボラック樹脂を除く。)及び?Aアルカリ可溶性樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一つの樹脂、(B)酸の作用により解裂しうる保護基を導入したノボラック樹脂、並びに(C)酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
(A)?@それ自体ではアルカリ水溶液に対して不溶性又は難溶性であるが、酸の作用により化学変化を起こしてアルカリ水溶液に可溶性となる樹脂(ただし、ノボラック樹脂を除く。)及び?Aアルカリ可溶性樹脂からなる群から選ばれた少なくとも一つの樹脂、(B)酸の作用により解裂しうる保護基を導入したノボラック樹脂、並びに(C)酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (6件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/44 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/18 ,  C08F 20/28 ,  C08F 20/44 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (31件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB29 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AM02Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 感光性組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-221230   出願人：株式会社東芝
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-175639   出願人：東京応化工業株式会社
  • ポジ型レジスト材料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-321540   出願人：日本電信電話株式会社, 信越化学工業株式会社

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