特許
J-GLOBAL ID:200903061460409963

陽極酸化ポーラスアルミナ複合体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伴 俊光
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-004072
公開番号(公開出願番号):特開2004-217961
出願日: 2003年01月10日
公開日(公表日): 2004年08月05日
要約:
【課題】陽極酸化ポーラスアルミナ細孔内に真空蒸着法により他物質を充填するに際し、高アスペクト比の充填構造を簡便に、かつ、安価に達成可能とした、陽極酸化ポーラスアルミナ複合体及びその製造方法を提供する。【解決手段】陽極酸化ポーラスアルミナの細孔内に他物質を充填して複合体を製造する方法において、エッチング処理により少なくとも細孔の開口部を拡径した後、細孔内に真空蒸着により他物質を充填することを特徴とする、陽極酸化ポーラスアルミナ複合体の製造方法、及びその方法により製造された陽極酸化ポーラスアルミナ複合体。【選択図】 図4
請求項(抜粋):
陽極酸化ポーラスアルミナの細孔内に他物質を充填して複合体を製造する方法において、エッチング処理により少なくとも細孔の開口部を拡径した後、細孔内に真空蒸着により他物質を充填することを特徴とする、陽極酸化ポーラスアルミナ複合体の製造方法。
IPC (12件):
C25D11/24 ,  C23C14/14 ,  C23C14/24 ,  C25D11/04 ,  C25D11/12 ,  C25D11/18 ,  C25D11/32 ,  G11B5/64 ,  G11B5/65 ,  G11B5/73 ,  G11B5/84 ,  G11B5/85
FI (13件):
C25D11/24 302 ,  C23C14/14 A ,  C23C14/14 D ,  C23C14/24 P ,  C25D11/04 B ,  C25D11/12 Z ,  C25D11/18 Z ,  C25D11/32 ,  G11B5/64 ,  G11B5/65 ,  G11B5/73 ,  G11B5/84 Z ,  G11B5/85 A
Fターム (19件):
4K029AA07 ,  4K029AA29 ,  4K029BA06 ,  4K029BA12 ,  4K029BA35 ,  4K029BC06 ,  4K029CA01 ,  4K029DA01 ,  4K029FA02 ,  5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D006CB04 ,  5D112AA02 ,  5D112AA05 ,  5D112BA06 ,  5D112BA09 ,  5D112BB01 ,  5D112FA02 ,  5D112GA29
引用特許:
審査官引用 (3件)

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