蒸気浴槽装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-178323
公開番号（公開出願番号）：特開平11-026422
出願日： 1997年07月03日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】【課題】新液の補給量を増やすことなく、有機溶剤蒸気浴中のパーティクルを少なくし、被洗浄物へパーティクルが付着することなく、きわめて清浄な洗浄及び乾燥を行うことのできる蒸気浴槽装置を開発すること。【解決手段】槽内底部にイソプロピルアルコール等の有機溶剤貯留域を有し、該有機溶剤貯留域の加熱手段を有する蒸気浴槽装置において、有機溶剤貯留域から貯留液の一部を抜き出しフィルターを通した後該有機溶剤貯留域に戻す循環ラインが設けられてなる蒸気浴槽装置。

請求項（抜粋）：

槽内底部に有機溶剤貯留域を有し、且つ該有機溶剤貯留域の加熱手段を有する蒸気浴槽装置において、有機溶剤貯留域から貯留液の一部を抜き出しフィルターを通した後該有機溶剤貯留域に戻す循環ラインが設けられてなる蒸気浴槽装置。

引用特許：

審査官引用 (2件)

乾燥処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-221161 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
洗浄乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-348050 出願人：株式会社日立製作所, ダイセル化学工業株式会社, ヘキストジャパン株式会社, 株式会社金門製作所

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