特許
J-GLOBAL ID:200903061715472532
水素分離膜を備える水素生成装置の起動方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人 明成国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-288040
公開番号(公開出願番号):特開2003-095608
出願日: 2001年09月21日
公開日(公表日): 2003年04月03日
要約:
【要約】【課題】 水素生成装置において低温時における水素分離膜の水素脆化を抑制する。【解決手段】 改質されたガスから水素を分離する水素分離膜を備える水素生成装置の起動時において、水素分離膜の温度に応じた起動制御を行う。水素分離膜が低温状態にある場合には、改質器でリーン燃焼を起こさせ、水素の生成を抑制しつつ、暖機を図る。水素分離膜が水素脆化を生じない程度の温度に至った時点t1で、改質を開始する。この際、水素分離膜を透過してきた水素に酸素を供給して燃焼させ、更に暖機を促進する。運転温度に至った時点t2で、パージ側酸素の供給を停止して、水素の燃焼を停止し、定常運転に移行する。
請求項(抜粋):
所定の原料の改質によって水素リッチなガスを生成する水素生成装置であって、前記原料を改質して改質ガスを生成する改質部と、該改質部に前記改質に要する物質を供給する供給部と、水素を選択的に透過する水素分離膜、および該水素分離膜を挟んで配置された改質ガス流路、水素流路を備え、前記改質ガス流路に供給された改質ガスから前記水素流路側に水素を分離する水素分離部と、該水素分離部の温度が水素分離膜の材質に応じて定まる所定の温度に満たない低温時に、前記改質ガス流路に供給されるガスの水素濃度を抑制する水素抑制部を備える水素生成装置。
IPC (5件):
C01B 3/32
, C01B 3/34
, C01B 3/56
, H01M 8/04
, H01M 8/06
FI (5件):
C01B 3/32 A
, C01B 3/34
, C01B 3/56 Z
, H01M 8/04 X
, H01M 8/06 G
Fターム (9件):
4G040AA29
, 4G040AB01
, 5H027AA02
, 5H027BA01
, 5H027BA16
, 5H027KK21
, 5H027KK31
, 5H027KK41
, 5H027MM00
引用特許:
出願人引用 (6件)
-
特開平4-160003
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水素及びエネルギーの生成方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-284294
出願人:レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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環境調和型水素製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-079462
出願人:千代田化工建設株式会社
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審査官引用 (6件)
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特開平4-160003
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水素及びエネルギーの生成方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-284294
出願人:レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
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環境調和型水素製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-079462
出願人:千代田化工建設株式会社
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