特許

J-GLOBAL ID：200903061719627816

露光装置及びデバイス製造方法

発明者： 中野 勝志
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  青山 正和 ,  西 和哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-423906
公開番号（公開出願番号）：特開2005-183744
出願日： 2003年12月22日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：

【課題】 投影光学系と基板との間が液体で満たされていても、投影光学系と基板との間の距離を高い精度で求めることができる検出装置を備える露光装置、及び当該露光装置を用いてデバイスを製造するデバイス製造方法を提供する。【解決手段】 投影光学系PLの先端部に設けられた供給回収板40は、投影光学系PLとウェハWとの間に液体wを導くとともに液体wを液体回収装置28に導く。また、液体wの周囲に窒素ガスを導くとともに窒素ガスを窒素ガス回収装置43に導く。この供給回収板40のウェハWに対向する面にはウェハWとの間の静電容量を検出する検出電極D2が設けられている。液体wの周囲に窒素ガスが供給されることで、二酸化炭素等の気体成分の液体wへの溶解が防止され、検出電極D2とウェハWとの間の静電容量を精確に検出でき、その結果として投影光学系と基板との間の距離を高い精度で求めることができる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

投影光学系を介して基板を露光する露光装置において、 前記投影光学系と前記基板との間が液体で満たされている状態で、前記投影光学系と前記基板との間の電気容量を検出して前記投影光学系と前記基板との間の距離を求める検出装置と、 前記投影光学系と前記基板との間を満たしている前記液体の周囲に不活性ガスを供給するガス供給装置と を備えることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L21/027 ,  G01B7/00 ,  G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D ,  G01B7/00 K ,  G03F7/20 521

Fターム (17件)：

2F063AA02 ,  2F063BA26 ,  2F063BB06 ,  2F063BC06 ,  2F063CA34 ,  2F063DA01 ,  2F063DA05 ,  2F063DC08 ,  2F063HA01 ,  2F063HA04 ,  2F063HA19 ,  5F046BA05 ,  5F046DA07 ,  5F046DA14 ,  5F046DB07 ,  5F046DB11 ,  5F046DC09

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 露光方法及び装置
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP1999006319   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光方法及び装置
  公報種別：再公表公報   出願番号：JP1999001262   出願人：株式会社ニコン