特許
J-GLOBAL ID:200903061783656013
蒸着装置
発明者:
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石島 茂男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-353523
公開番号(公開出願番号):特開平10-176262
出願日: 1996年12月17日
公開日(公表日): 1998年06月30日
要約:
【要約】【課題】基板に堆積する粒子の入射角を制限することによって高品位の膜質を有する薄膜を形成しうる蒸着装置を提供する。【解決手段】真空下で搬送される基板5上に蒸着材料(例えば、MgO)を蒸着して薄膜を形成するための蒸着装置で、基板5に付着する蒸着材料の粒子10の入射角θ2、θ3が所定の角度より大きくならないように当該粒子の入射角を規制する入射角規制手段を設ける。入射角規制手段として、蒸着材料の蒸発源8に対し、基板5の搬送方向の上流側及び下流側に基板5に対する入射角θ3 が35度より大きい蒸着材料の粒子10を遮る蒸着材遮蔽板11a、11bを設ける。また、基板5の搬送方向と直交する方向に複数の蒸発源8a〜8dを配し、各蒸発源8a〜8dの間に衝立状の蒸着材遮蔽板9a、9b、9cを設け、基板5に対する入射角θ2 が35度より大きい蒸着材料の粒子10を遮るようにする。
請求項(抜粋):
真空下で搬送される基体上に蒸着材料を蒸着して薄膜を形成するための蒸着装置であって、上記基体に付着する蒸着材料の粒子の入射角が所定の角度より大きくならないように当該粒子の入射角を規制する入射角規制手段を設けたことを特徴とする蒸着装置。
IPC (2件):
FI (2件):
C23C 14/30 A
, C23C 14/08 J
引用特許:
審査官引用 (6件)
-
特開平2-004963
-
特開平4-151240
-
蒸着フイルムの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-033331
出願人:凸版印刷株式会社
全件表示
前のページに戻る