光学同調断層撮影装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：朝日奈宗太 , 佐木啓二 , 秋山文男 , 田中弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-376598
公開番号（公開出願番号）：特開2004-361381
出願日： 2003年11月06日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：

【課題】サブマイクロメータの解像を可能にする光学同調断層撮影技術を提供する。【解決手段】短波長光を放射し、蛍光体に通過させることで広帯域波長の第1光線に転換される光源、前記第1光線を第2光線と第3光線に分ける干渉計、および前記第2光線を反射させ、参照光線にする反射鏡を備えた光学同調断層撮影装置。前記第3光線は前記測定物によって反射され、第4光線となり、前記干渉計で前記参照光線と干渉的に重なり合うことで、光信号として用いられる干渉縞が提供される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

短波長光を放射し、蛍光体に通過させることで広帯域波長の第1光線に転換される光源、前記第1光線を第2光線と第3光線に分ける干渉計、および前記第2光線を反射させ、参照光線にする反射鏡を含んでおり、前記第3光線は前記測定物によって反射され、第4光線となり、前記干渉計で前記参照光線と干渉的に重なり合うことで、光信号として用いられる干渉縞が提供される、サブマイクロメータの解像度を提供する光学同調断層撮影装置。

IPC (3件)：

G01N21/17 , G01B11/24 , G01N21/01

FI (5件)：

G01N21/17 625 , G01N21/01 D , G01B11/24 D , A61B3/12 E , A61B5/10 300Q

Fターム (34件)：

2F065AA52 , 2F065CC16 , 2F065DD03 , 2F065FF52 , 2F065FF61 , 2F065GG00 , 2F065GG01 , 2F065GG04 , 2F065GG07 , 2F065GG22 , 2F065GG24 , 2F065HH13 , 2F065JJ15 , 2F065LL02 , 2F065LL46 , 2F065UU01 , 2G059AA05 , 2G059BB12 , 2G059EE09 , 2G059EE11 , 2G059FF02 , 2G059GG01 , 2G059GG02 , 2G059GG10 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059HH03 , 2G059JJ17 , 2G059KK01 , 2G059MM09 , 4C038VA04 , 4C038VB22 , 4C038VC01 , 4C038VC05

引用特許：

出願人引用 (2件)

米国特許第5,459,570号明細書
米国特許第6,538,817号明細書

審査官引用 (5件)

光断層画像化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-067264 出願人：富士写真フイルム株式会社
発光装置及びその形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-386209 出願人：日亜化学工業株式会社
発光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-291782 出願人：豊田合成株式会社

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