特許
J-GLOBAL ID：200903061850133217
ITO膜の形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
,
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-166037
公開番号（公開出願番号）：特開平11-339574
出願日： 1998年05月28日
公開日（公表日）： 1999年12月10日
要約：
【要約】【課題】 パターン形成性、透明性、低抵抗性等に優れたITO膜を形成する方法を提供すること。【解決手段】 ベースポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有し、かつベースポリマー(A)の共重合体の主成分が(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸及び水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルである感光性樹脂組成物を用いて、圧力勾配型プラズマガンを用いた活性化反応蒸着法によるリフトオフ法で成膜を行う。
請求項（抜粋）：
?@基板に感光性樹脂組成物層を形成する工程、?A感光性樹脂組成物層をパターンマスクを介して露光する工程、?B現像する工程、?CITO膜を成膜する工程、及び?D硬化感光性樹脂組成物層を剥離する工程の5工程からなるリフトオフ法によるITO膜の形成方法において、該感光性樹脂組成物がベースポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有し、かつベースポリマー(A)の共重合体主成分として(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸及び水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルを用い、更に?C工程において圧力勾配型プラズマガンを用いた活性化反応蒸着法により成膜を行うことを特徴とするITO膜の形成方法。
IPC (6件)：
H01B 13/00 503
, G03F 7/027
, G03F 7/033
, G03F 7/075 501
, H01B 1/08
, H01J 9/02
H01B 13/00 503 B
, G03F 7/027
, G03F 7/033
, G03F 7/075 501
, H01B 1/08
, H01J 9/02 F
