特許
J-GLOBAL ID：200903061870869481
遠紫外線用高純度シリカガラス及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-078141
公開番号（公開出願番号）：特開平9-241030
出願日： 1996年03月07日
公開日（公表日）： 1997年09月16日
要約：
【要約】【課題】本発明は、遠紫外線の光透過率が高く、耐遠紫外線性のあるシリカガラス及びその製造方法を提供すること。【解決手段】設定仮想温度が500〜1000°C、酸素欠損型欠陥濃度が5×1016個/cm3以下、酸素過剰型欠陥濃度が5×1016個/cm3以下である遠紫外線用高純度シリカガラス、及び高純度の珪素化合物を用いて形成した透明シリカガラスを500〜1000°Cで100〜2000時間の仮想温度設定処理する遠紫外線用高純度シリカガラスの製造方法。
請求項（抜粋）：
設定仮想温度が500〜1000°C、酸素欠損型欠陥濃度が5×1016個/cm3以下、酸素過剰型欠陥濃度が5×1016個/cm3以下であることを特徴とする遠紫外線用高純度シリカガラス。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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