垂直インピーダンスセンサ構造および垂直インピーダンスセンサ構造の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：原謙三 , 木島隆一 , 金子一郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-576947
公開番号（公開出願番号）：特表2005-527799
出願日： 2003年03月14日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：

本発明は、垂直インピーダンスセンサ構造および垂直インピーダンスセンサ構造の製造方法に関するものである。垂直インピーダンスセンサ構造は、基板と第1の導電構造とを備えている。第1の導電構造は、第1の露出表面を備え、基板中および/または基板上に配置されている。間隔保持部は、基板上方および/または第1の導電構造上の少なくとも一部に配置されている。垂直インピーダンスセンサ構造は、第2の導電構造をさらに備えている。この第2の導電構造は第2の露出面を備え、間隔保持部上に配置されている。第1および第2の露出面領域には、認識される粒子とハイブリダイゼーションできるように構成された捕獲分子が固定されている。

請求項（抜粋）：

基板と、第1の露出表面を有し、上記基板中および/または上記基板上に配置されている第1の導電構造と、上記基板上方、および/または、上記第1の導電構造の少なくとも一部上に、配置されている間隔保持部と、上記間隔保持部上に配置されており、第2の露出表面を有する第2の導電構造と、上記第1および第2の露出表面上に固定され、認識される粒子とハイブリダイゼーションできるように構成されている捕獲分子と、を備えている、垂直インピーダンスセンサ構造。

IPC (1件)：

G01N27/02

FI (2件)：

G01N27/02 D , C12N15/00 A

Fターム (8件)：

2G060AA15 , 2G060AF06 , 2G060AG06 , 2G060AG11 , 2G060KA09 , 4B024AA11 , 4B024CA09 , 4B024HA12

引用特許：

審査官引用 (6件)

特表平7-508831
能動プログラマブル・マトリックスデバイス用の装置および方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-513452 出願人：ナノゲン・インコーポレイテッド
特表平7-508831

全件表示

前のページに戻る