特許

J-GLOBAL ID：200903061932668186

光ファイバ用母材、光ファイバ及びその製造方法

発明者： 布目 智宏 ,  後藤 孝和 ,  山田 成敏
出願人/特許権者： 株式会社フジクラ
代理人 (4件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-170672
公開番号（公開出願番号）：特開2006-342033
出願日： 2005年06月10日
公開日（公表日）： 2006年12月21日
要約：

【課題】 光ファイバの水素耐性向上のための重水素の使用量が少なく、また曝露にかかる時間を短縮できる光ファイバ用母材及び光ファイバの提供。【解決手段】 石英ガラスからなり、コア領域とその外周を囲むクラッド領域とを有する光ファイバ用母材であって、母材の全域にわたって波長163nm帯の紫外透過率が30%以下であることを特徴とする光ファイバ用母材。該光ファイバ用母材を紡糸して光ファイバを作製し、次いで該光ファイバを重水素含有雰囲気中に曝露して波長630nm帯の損失が実質的に無くなるまで重水素曝露処理を行って耐水素特性の向上した光ファイバを得ることを特徴とする光ファイバの製造方法。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

石英ガラスからなり、コア領域とその外周を囲むクラッド領域とを有する光ファイバ用母材であって、母材の全域にわたって波長163nm帯の紫外透過率が30%以下であることを特徴とする光ファイバ用母材。

IPC (4件)：

C03B 37/012 ,  C03B 37/027 ,  C03B 37/14 ,  G02B 6/00

FI (4件)：

C03B37/012 Z ,  C03B37/027 Z ,  C03B37/14 A ,  G02B6/00 356A

Fターム (3件)：

4G021BA00 ,  4G021HA01 ,  4G021HA04

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 情報処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-322667   出願人：日本電気株式会社
• 光ファイバ処理装置及び処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-271859   出願人：信越化学工業株式会社

審査官引用 (4件)

• 特開平3-232732
  
• 特開昭60-215538
  
• 改善した酸素化学量論比およびジュウテリウム曝露を用いた光ファイバ製造方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-185481   出願人：ファイテルユーエスエーコーポレーション
• 光ファイバの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-418251   出願人：日立電線株式会社