放電生成プラズマEUV光源

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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：熊倉禎男 , 大塚文昭 , 西島孝喜 , 須田洋之
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-509069
公開番号（公開出願番号）：特表2006-520107
出願日： 2004年03月03日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：

【課題】電極間の放電を利用して発光プラズマを形成するEUV光源及び軟X線光源を提供する。【解決手段】プラズマを出るデブリから金属ハロゲン化物を生成する金属ハロゲンガスを使用するデブリ軽減装置を含むことができるDPPのEUV光源。EUV光源は、焦点に視準した光路によって結合された内面及び外面を有する複数の曲線遮蔽部材を含むことができるデブリ遮蔽体を有することができ、この遮蔽部材は、その間の開放空間を用いて交互させることができ、1つの回転軸で円及び別の回転軸で楕円を形成する表面を有することができる。電極には、放電の軸線方向消滅段階中の中庸な電流と、放電の半径方向圧縮段階中に生じるピークとを生成するように形成された放電パルスを供給することができる。光源は、発生チャンバに接続した入口を有してチャンバから緩衝ガスよりも多くの原料ガスを優先的にポンピングするように作動可能なターボ分子ポンプを含むことができる。光源は、第1の領域で少なくとも選択導電率まで及び第2の領域で少なくとも選択熱伝導率までドープされたドープの異なるセラミック材料を含む調整導電電極を含むことができる。第1の領域は、電極構造体の外面又はその近くにあるとすることができ、セラミック材料は、SiC又はアルミナとすることができ、ドーパントは、BNか又はSiO又はTiO2を含む金属酸化物とすることができる。光源は、電極アセンブリ取付台を交換位置から作動位置まで移動するように作動可能な可動電極アセンブリ取付台を含むことができ、可動取付台はベローズ上である。光源は、集光器に作動的に接続されてそれぞれのシェル部材の温度を調節してそれぞれのシェル部材からのかすり入射角の反射を最適化する温度関連幾何学形状を維持するように作動する温度制御機構、又はシェル部材を位置決めするための機械式保定装置を有することができる。シェルには、電圧でバイアスを掛けることができる。デブリ遮蔽体は、焦点外れレーザ放射を用いて作製することができる。アノードは、2つの冷却液通路を形成する中空内部又はこれらの通路を形成する多孔金属を用いて冷却することができる。デブリ遮蔽体は、取付リング又はハブに取り付けられるか、又は均一な分離及び補強をもたらしかつ一切の有意な量の光を妨げない連結タブで互いに取り付けられた、複数の大、中、小のフィンで形成することができる。

請求項（抜粋）：

金属を含む深プラズマピンチ電極を利用して、プラズマ形成から生じる金属デブリを除去するように作動するEUV光源デブリ軽減装置であって、 EUV光源から生成された出力ビームの経路内の電極を含む金属とともに金属ハロゲン化物を生成することになる、ハロゲンガス又はハロゲン含有ガスを含む金属ハロゲン生成ガス、を含むことを特徴とする装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G21K 1/06 , H05G 2/00

FI (4件)：

H01L21/30 531S , G21K1/06 B , G21K1/06 M , H05G1/00 K

Fターム (5件)：

4C092AA04 , 4C092AB19 , 4C092AC09 , 4C092BD18 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (19件)

米国特許出願出願番号第10/384,967号
米国特許出願出願番号第60/422,808号
米国特許出願出願番号第60/419,805号

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審査官引用 (5件)

環境チャンバおよび半導体製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-325783 出願人：キヤノン株式会社
放射源と放射源からの放射を処理する処理機構とを含む遠紫外線リソグラフィに適した装置、ならびに放射源から放射された望ましくない原子および微小粒子を抑制するためのフィルタ
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-532779 出願人：スティクティング・ヴーア・デ・テクニシェ・ウェッテンシャペン
特開昭58-115821

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