特許
J-GLOBAL ID：200903061970547546
走査露光方法及び装置
出願人/特許権者：
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-071230
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270300
出願日： 1997年03月25日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：
【要約】【課題】 露光対象の領域の表面の凹凸変化が急激である場合でも、スループットを低下させることなくその領域の表面を像面に正確に合わせ込んで走査露光を行う。【解決手段】 スリット状の照野フィールド3に対して走査方向に所定幅の区間16F,16Rを隔ててフォーカス位置の計測領域15F,15Rを設定しておき、ウエハのショット領域に対して走査露光を行う際に、ウエハの助走開始点において例えば計測領域15Fでそのショット領域を覆い、その計測領域15F内の検出点P11 〜P53 でそのショット領域の表面のフォーカス位置の計測を行う。この計測結果に基づいて、走査露光時に照野フィールド3内のウエハの表面をオートフォーカス方式、及びオートレベリング方式で像面に合わせ込むためのウエハの面位置の制御量を決定する。
請求項（抜粋）：
マスクと基板とを同期して移動することによって、前記マスクのパターンの像を投影光学系を介して前記基板上に露光する走査露光方法において、前記基板の助走開始位置で、これから露光される前記基板表面の複数箇所の前記投影光学系の光軸方向の位置を計測し、前記基板への走査露光中に、前記計測された光軸方向の位置に基づいて、前記基板表面の面位置を設定することを特徴とする走査露光方法。
引用特許：
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