特許
J-GLOBAL ID:200903061974128661
放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-256733
公開番号(公開出願番号):特開2006-071526
出願日: 2004年09月03日
公開日(公表日): 2006年03月16日
要約:
【課題】 輝度及び鮮鋭性が高く、かつ輝度分布が均一な放射線像変換パネル及びその製造方法を提供することである。【解決手段】 支持体上に保護層及び輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、少なくとも1層の該輝尽性蛍光体層が、気相法(気相堆積法ともいう)により50μm以上の膜厚を有するように形成され、該蛍光体層上に蒸着プロセスによりポリアミン≧ポリイソシアネートとなるポリウレア保護層が形成されることを特徴とする放射線像変換パネル。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
支持体上に保護層及び輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、少なくとも1層の該輝尽性蛍光体層が、気相法(気相堆積法ともいう)により50μm以上の膜厚を有するように形成され、該蛍光体層上に蒸着プロセスによりポリアミン≧ポリイソシアネートとなるポリウレア保護層が形成されることを特徴とする放射線像変換パネル。
IPC (4件):
G21K 4/00
, C09K 11/00
, C09K 11/85
, G01T 1/00
FI (4件):
G21K4/00 M
, C09K11/00 B
, C09K11/85
, G01T1/00 B
Fターム (30件):
2G083AA03
, 2G083BB01
, 2G083CC01
, 2G083CC02
, 2G083CC03
, 2G083DD01
, 2G083DD02
, 2G083DD11
, 2G083DD12
, 2G083DD14
, 2G083DD17
, 2G083EE02
, 2G083EE03
, 4H001CA04
, 4H001CA08
, 4H001XA00
, 4H001XA03
, 4H001XA09
, 4H001XA11
, 4H001XA17
, 4H001XA19
, 4H001XA35
, 4H001XA37
, 4H001XA39
, 4H001XA53
, 4H001XA55
, 4H001YA00
, 4H001YA39
, 4H001YA49
, 4H001YA55
引用特許:
出願人引用 (15件)
-
米国特許第3,859,527号明細書
-
特開平2-58000号公報
-
特開昭59-75200号公報
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審査官引用 (5件)
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