特許
J-GLOBAL ID：200903062081629782

液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト塗布液及びそれを用いた基材

発明者：
加藤 哲也

加藤 哲也 について

, 
越山 淳

越山 淳 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-358912
公開番号（公開出願番号）：特開2000-181055
出願日： 1998年12月17日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：
【要約】【課題】 ストリエーション、乾燥むら及び滴下跡をバランスよく制御する液晶素子用ポジ型ホトレジスト塗布液を提供する。【解決手段】 (a)アルカリ可溶性樹脂、(b)キノンジアジド基含有化合物及び(c)フッ素含有量が10〜25重量%であり、かつケイ素含有量が3〜10重量%の非イオン性フッ素・ケイ素系界面活性剤を(d)有機溶媒に溶解してなる液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト塗布液。これを塗布した基材も記述される。
請求項（抜粋）：
(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)キノンジアジド基含有化合物及ぴ(c)フッ素含有量が10〜25重量%であり、かつケイ素含有量が3〜10重量%の非イオン性フッ素・ケイ素系界面活性剤を(d)有機溶媒に溶解してなる液晶素子製造用ポジ型ホトレジスト塗布液。
IPC (3件)：
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504
FI (3件)：
G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504
Fターム (7件)：
2H025AA00 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB52 ,  2H025CC04
引用特許：
審査官引用 (3件)

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