特許
J-GLOBAL ID：200903065477908403

フォトレジスト組成物

発明者：
西 峰雄

西 峰雄 について

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中野 浩二

中野 浩二 について

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楠本 ▲匡▼

楠本 ▲匡▼ について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-196882
公開番号（公開出願番号）：特開平8-062834
出願日： 1994年08月22日
公開日（公表日）： 1996年03月08日
要約：
【要約】【目的】 消泡性が良く、塗布ムラ及び塗れ残りが発生しないフォトレジスト組成物を提供する。【構成】 フォトレジスト溶媒中での臨界ミセル濃度に於ける表面張力が15dyn/cm以上24.5dyn/cm以下であるフッ素系界面活性剤、又は、非イオン性基、アニオン性基及びカチオン性基から選ばれる少なくとも1種の基、フッ素化アルキル基並びにシリコーン基を含有する重合体からなるフッ素系界面活性剤を含有するフォトレジスト組成物。
請求項（抜粋）：
フォトレジスト溶媒中での臨界ミセル濃度における表面張力が15dyn/cm以上24.5dyn/cm以下であるフッ素系界面活性剤を含有することを特徴とするフォトレジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 504 ,  B01F 17/00 ,  H01L 21/027
引用特許：
審査官引用 (16件)
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