特許

J-GLOBAL ID：200903062093691904

ガスバリア性フィルムの製造方法

発明者： 別所 正博
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 萩原 亮一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-059464
公開番号（公開出願番号）：特開平11-256338
出願日： 1998年03月11日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：

【要約】【課題】 ガスバリア性に優れ、透明性も高く、さらに安定した品質のガスバリア性フィルムを、大気圧下のプロセスで操作性よく容易に製造することができるガスバリア性フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】 高分子フィルム上に、20〜150°Cの温度域において液体である有機珪素化合物を原料として、600〜1520Torrの圧力下で発生するプラズマを用いたCVD法により、SiOx(x=1.0〜2.0)で表される酸化珪素を主成分とする薄膜を形成させることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。

請求項（抜粋）：

高分子フィルム上に、20〜150°Cの温度域において液体である有機珪素化合物を原料として、600〜1520Torrの圧力下で発生するプラズマを用いたCVD法により、SiOx(x=1.0〜2.0)で表される酸化珪素を主成分とする薄膜を形成させることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

• シリカ薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-339522   出願人：信越化学工業株式会社
• 特開平3-072077
  
• 大気圧プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-049791   出願人：株式会社リコー