特許
J-GLOBAL ID：200903062197526409
ウエハーの表面処理装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中前 富士男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-031455
公開番号（公開出願番号）：特開2000-232086
出願日： 1999年02月09日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：
【要約】【課題】 リンス処理工程と薬液処理工程の両方に適する液の流れを形成して効果的な洗浄処理を行うウエハーの表面処理装置を提供する。【解決手段】 処理槽20の中に複数枚の直立したウエハー50を並行して装入し、処理槽20の下部に処理槽20内に供給される洗浄用薬液に攪拌効果をもつ下降流を生じさせる薬液用分散管30と、処理槽20内に供給されるリンス用超純水に均一上昇流を発生させる超純水用分散管40と設け、薬液用分散管30と超純水用分散管40からそれぞれ供給される洗浄用薬液とリンス用超純水とによってウエハー50を洗浄する表面処理装置10である。
請求項（抜粋）：
処理槽の中に複数枚の直立したウエハーを並行して装入し、前記ウエハーを前記処理槽の下部に設けた分散管から供給される洗浄用薬液とリンス用超純水とによって洗浄する表面処理装置であって、前記分散管は、前記処理槽内に供給される前記洗浄用薬液に攪拌効果をもつ下降流を生じさせる薬液用分散管と、前記処理槽内に供給される前記リンス用超純水に均一上昇流を発生させる超純水用分散管とを有していることを特徴とするウエハーの表面処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 642
, H01L 21/304 648
H01L 21/304 642 F
, H01L 21/304 648 G
