基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川崎実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-118579
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313772
出願日： 2001年04月17日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
要約：

【要約】【課題】とくに基板の上面における処理液の跳ね返りを抑制する。【解決手段】スプラッシュガード4の外周面には、スプラッシュガード4の上方に延びるようにノズル保持部材45が取り付けられており、このノズル保持部材45には、2つの処理液供給ノズル5,6が、それぞれの先端をウエハWに向けて斜めに下げた状態で上下に保持されている。処理液供給ノズル5,6は、スプラッシュガード4が回収位置に上昇した状態における処理液供給ノズル6の位置(高さ)とスプラッシュガード4が排液位置に下降した状態における処理液供給ノズル5の位置(高さ)とが一致するような間隔を空けて設けられている。スピンチャック1に保持されたウエハWの斜め上方からウエハWの上面の予め定める処理液供給位置に同じ入射角で処理液を供給できるようにされている。

請求項（抜粋）：

基板に処理液を用いた処理を施す基板処理装置であって、基板をほぼ水平に保持して回転させる基板保持回転手段と、この基板保持回転手段に保持された基板の側方を取り囲むように設けられており、基板から周囲に飛散する処理液を捕獲するための飛沫捕獲手段と、この飛沫捕獲手段に取り付けられており、上記基板保持回転手段に保持された基板に対して、平面視で基板の外方から処理液を供給するための処理液供給手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 651 , H01L 21/304 643 , B08B 3/02

FI (3件)：

H01L 21/304 651 B , H01L 21/304 643 A , B08B 3/02 C

Fターム (11件)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB23 , 3B201AB33 , 3B201AB47 , 3B201BB22 , 3B201BB91 , 3B201BB93 , 3B201CC12 , 3B201CC13 , 3B201CD33

引用特許：

審査官引用 (4件)

スピン処理装置及びその方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-243056 出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-333984 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平2-051229

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