特許
J-GLOBAL ID：200903062230530751

薄膜形成用スパッタリングターゲット材およびそれを用いて形成されて成る薄膜、および光学記録媒体

発明者：
上野 崇

上野 崇 について

, 
荒谷 勝久

荒谷 勝久 について


出願人/特許権者：
株式会社フルヤ金属

株式会社フルヤ金属 について

, 
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-282982
公開番号（公開出願番号）：特開2000-109943
出願日： 1998年10月05日
公開日（公表日）： 2000年04月18日
要約：
【要約】【課題】 高反射率の維持、耐候性の改善、合金作製にあたっての製造容易さ、スパッタリングターゲットとして使用する場合のスパッタリング工程における安定性、簡易性を図った合金材および薄膜、光学記録媒体を得る。【解決手段】 Agに、Pdが、0.5〜4.9原子%含有されてなるAgPd合金を薄膜形成用スパッタリングターゲット材とし、これにより、光学記録媒体10を構成する薄膜すなわち反射膜16を形成し、この反射膜16を構成要素とする光学記録媒体10を作製する。
請求項（抜粋）：
Agに、Pdが、0.5〜4.9原子%含有されてなることを特徴とするAgPd合金の薄膜形成用スパッタリングターゲット材。
IPC (7件)：
C22C 5/06 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/34 ,  G11B 7/24 538 ,  G11B 7/26 531 ,  G11B 11/10 523 ,  G11B 11/10 541
FI (7件)：
C22C 5/06 Z ,  C23C 14/14 D ,  C23C 14/34 A ,  G11B 7/24 538 H ,  G11B 7/26 531 ,  G11B 11/10 523 ,  G11B 11/10 541 H
Fターム (12件)：
4K029BA22 ,  4K029BD00 ,  4K029CA05 ,  4K029DC04 ,  5D029MA13 ,  5D075EE03 ,  5D075FG01 ,  5D075GG03 ,  5D121AA05 ,  5D121EE03 ,  5D121EE09 ,  5D121EE14
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (6件)
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