特許
J-GLOBAL ID：200903062239645420
オゾン注入制御方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-012191
公開番号（公開出願番号）：特開平11-207369
出願日： 1998年01月26日
公開日（公表日）： 1999年08月03日
要約：
【要約】【課題】 オゾン処理による除去目的物質の除去効果を把握して、必要とするオゾンを注入する「最適オゾン量注入制御」を確立することを目的とする。【解決手段】 被処理水1をオゾン接触池2で注入オゾン濃度制御装置7により処理してオゾン処理水3を得るようにしたオゾン注入処理において、被処理水1の紫外線吸光度をUV計4により測定するとともに、オゾン処理水3の溶存オゾン濃度をUV測定機能付きDO3計5により測定し、演算装置8により被処理水1のUV値に対するオゾン処理水3のUV残存率が一定になるように注入オゾン濃度制御装置7のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン接触池2内にオゾンガスを注入するようにしたオゾン注入制御方法を基本手段とする。演算装置にUV残存率設定機能,THMFP残存率設定機能,KMnO4消費量設定機能及び溶存オゾン濃度DO3の上限設定機能を設けてある。
請求項（抜粋）：
被処理水をオゾン接触池で注入オゾン濃度制御装置によるオゾン処理を行うことにより、水中の溶存性の微量有機物質を除去してオゾン処理水を得るようにしたオゾン注入処理において、被処理水の紫外線吸光度をUV計により測定するとともに、オゾン処理水の溶存オゾン濃度を紫外線吸光度測定機能付きDO3計により測定し、演算装置により被処理水のUV値に対するオゾン処理水のUV残存率が一定になるように注入オゾン濃度制御装置のフィードバック制御を行い、求めたオゾン濃度に基づいてオゾン接触池内にオゾンを注入することを特徴とするオゾン注入制御方法。
IPC (2件)：
C02F 1/78 ZAB
, C02F 1/00
C02F 1/78 ZAB
, C02F 1/00 D
