半導体製造装置及び半導体装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：眞鍋潔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-133668
公開番号（公開出願番号）：特開2000-323470
出願日： 1999年05月14日
公開日（公表日）： 2000年11月24日
要約：

【要約】【課題】半導体製造装置及び半導体装置の製造方法に関し、ウェハの短時間保管中における自然酸化膜の成長と有機物汚染を抑制する。【解決手段】半導体製造装置に搭載するファン2とフィルタとを組み合わせたファンフィルタユニット1に用いるフィルタとして、化学吸着剤を内蔵するフィルタ3を少なくとも設ける。

請求項（抜粋）：

ファンとフィルタとを組み合わせたファンフィルタユニットを搭載した半導体製造装置において、前記フィルタとして、化学吸着剤を内蔵するフィルタを少なくとも設けたことを特徴とする半導体製造装置。

Fターム (3件)：

5F045AB03 , 5F045BB14 , 5F045EE10

引用特許：

審査官引用 (3件)

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