特許

J-GLOBAL ID：200903062320488550

基板のターゲット部分にパターンをイメージングするための方法

発明者： デ ニベル,マーティン,ジュールズ,マリー-エミール ,  ブリンクホフ,ラルフ ,  ロイジャーズ,ジョゼフ,コルネルス,アントニウス
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-111142
公開番号（公開出願番号）：特開2007-300097
出願日： 2007年04月20日
公開日（公表日）： 2007年11月15日
要約：

【課題】オンザフライレベリングで、レベルセンサの測定と基板ステージの移動との間に生じる遅延時間の増加を防ぐ投影システムを提供する。【解決手段】基板テーブルの上に配置された基板にパターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影し、基板のトポロジーの測定値であるレベルセンサ値を読取る。さらに、基板テーブルをレベルセンサ読取値に基づいて放射ビームに対して位置決めし、基板のターゲット部分をスキャンすることによってパターンをターゲット部分に同期イメージングしている間、レベルセンサとパターン付き放射ビームを使用してレベルセンサ値を読取る。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

基板のターゲット部分にパターンをイメージングするための方法であって、 パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムを提供することと、 前記放射ビームに対して配置するようになされた基板テーブルの上に配置された基板を提供することと、 前記ターゲット部分内の1つまたは複数の位置における前記基板のトポロジーの測定値であるレベルセンサ読取値を提供するようになされたレベルセンサを提供することと、 前記基板テーブルを前記レベルセンサ読取値に基づいて前記放射ビームに対して位置決めする一方、前記パターン付き放射ビームにより前記基板の前記ターゲット部分をスキャンすることによってパターンを前記ターゲット部分に同期イメージングする一方、前記レベルセンサにより前記ターゲット部分をスキャンすることによってレベルセンサ読取値を提供することと、 を含み、予め決定済みの平均レベルセンサ読取値に基づいて前記レベルセンサ読取値が調整される方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L21/30 526B

Fターム (9件)：

5F046AA26 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB04 ,  5F046DC09 ,  5F046DC10 ,  5F046DD03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 露光装置および露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-215540   出願人：沖電気工業株式会社
• 面位置検出装置、面位置検出方法及び露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-388628   出願人：キヤノン株式会社
• 基板の傾斜および高さの少なくとも一方を決定するセンサを備えるアセンブリ、その方法およびリソグラフィ投影装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-067388   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ