特許

J-GLOBAL ID：200903076644464441

基板の傾斜および高さの少なくとも一方を決定するセンサを備えるアセンブリ、その方法およびリソグラフィ投影装置

発明者： ラルフ ブリンクホフ ,  マルクス エミール ヨハンネス ボーンマン ,  マルティン ユールス マリー - エミール デ ニヴェル
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-067388
公開番号（公開出願番号）：特開2004-343066
出願日： 2004年03月10日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：

【課題】本発明は、リソグラフィ投影装置で基板の表面の傾斜および高さのうち少なくとも1つを決定するセンサを備えるアセンブリを提供する。【解決手段】基板(W;11)は、センサに対して基板の表面にほぼ平行な少なくとも1つの路に沿って移動可能である。リソグラフィ投影装置(1)は露光走査方向(y)を有し、アセンブリは、上記少なくとも1つの路に沿って上記センサに対して基板を連続的に移動させ、上記少なくとも1つの路に沿って傾斜および高さのうち上記少なくとも1つに関する測定データを提供するよう構成される。アセンブリは、上記基板をその後に露光する間に上記リソグラフィ投影装置が使用するため、上記測定データを記憶するメモリ(10)を備える。基板の上記少なくとも1つの路は、少なくとも部分的に露光走査方向に対して角度を有する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置(1)で基板(W;11)の表面の傾斜および高さのうち少なくとも1つを決定するセンサを備えるアセンブリで、基板(W;11)が、センサに対して基板の表面にほぼ平行な少なくとも1つの路に沿って移動可能であり、リソグラフィ投影装置が露光走査方向(y)を有し、アセンブリが、上記少なくとも1つの路に沿って上記センサに対して基板を連続的に移動させ、上記少なくとも1つの路に沿って傾斜および高さのうち上記少なくとも1つに関する測定データを提供するよう構成され、アセンブリが、上記基板をその後に露光する間に上記リソグラフィ投影装置が使用するため、上記測定データを記憶するメモリ(10)を備えるアセンブリであって、基板の上記少なくとも1つの路が、少なくとも部分的に露光走査方向に対して角度を有することを特徴とするアセンブリ。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 516C ,  G03F7/20 521

Fターム (4件)：

5F046BA03 ,  5F046DA05 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 投影露光方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-303437   出願人：株式会社ニコン
• 投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-105407   出願人：株式会社ニコン
• 特開昭57-167024